8-Zoll-Halbmondteil für die LPE-Reaktorfabrik

Hersteller von mit Tantalkarbid beschichteten Planetenrotationsscheiben

SiC-beschichteter Fasssuszeptor für LPE PE2061S Lieferant

Tantalcarbid-Beschichtung

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller von Tantalcarbid-Beschichtungsmaterialien für die Halbleiterindustrie. Zu unserem Hauptproduktangebot gehören CVD-Tantalcarbid-Beschichtungsteile, gesinterte TaC-Beschichtungsteile für das SiC-Kristallwachstum oder den Halbleiterepitaxieprozess. VeTek Semiconductor hat ISO9001 bestanden und verfügt über eine gute Qualitätskontrolle. VeTek Semiconductor ist bestrebt, durch kontinuierliche Forschung und Entwicklung iterativer Technologien zum Innovator in der Tantalcarbid-Beschichtungsbranche zu werden.

Die Hauptprodukte sind ein mit Tantalcarbid beschichteter Deflektorring, ein mit TaC beschichteter Umleitungsring, mit TaC beschichtete Halbmondteile, eine mit Tantalcarbid beschichtete Planetenrotationsscheibe (Aixtron G10) und ein mit TaC beschichteter Tiegel. TaC-beschichtete Ringe; TaC-beschichteter poröser Graphit; Graphitsuszeptor mit Tantalkarbidbeschichtung; TaC-beschichteter Führungsring; TaC-Tantalcarbid-beschichtete Platte; TaC-beschichteter Wafer-Suszeptor; TaC-Beschichtungsring; TaC-Beschichtung Graphitabdeckung; TaC-beschichtete Chunks usw., deren Reinheit unter 5 ppm liegt, können die Kundenanforderungen erfüllen.

TaC-Beschichtungsgraphit wird hergestellt, indem die Oberfläche eines hochreinen Graphitsubstrats mit einer feinen Schicht Tantalkarbid durch ein proprietäres CVD-Verfahren (Chemical Vapour Deposition) beschichtet wird. Der Vorteil ist im folgenden Bild dargestellt:

Performance Advantages of Tantalum Carbide Coating

Die Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung hat aufgrund ihres hohen Schmelzpunkts von bis zu 3880 °C, ihrer hervorragenden mechanischen Festigkeit, Härte und Beständigkeit gegen Thermoschocks Aufmerksamkeit erregt, was sie zu einer attraktiven Alternative zu Epitaxieprozessen für Verbindungshalbleiter mit höheren Temperaturanforderungen macht. wie das Aixtron MOCVD-System und der LPE-SiC-Epitaxieprozess. Es findet auch eine breite Anwendung im SiC-Kristallwachstumsprozess mit der PVT-Methode.

Hauptmerkmale:

Temperaturstabilität

Ultrahohe Reinheit

Beständigkeit gegen H2, NH3, SiH4, Si

Beständigkeit gegen thermische Bestände

Starke Haftung auf Graphit

Schutzbeschichtung

Größe bis 750 mm Durchmesser (Der einzige Hersteller in China erreicht diese Größe)

Anwendungen:

Waffelträger

Induktiver Heizsuszeptor

Widerstandsheizelement

Satellitenscheibe

Duschkopf

Führungsring

LED-Epi-Empfänger

Einspritzdüse

Abdeckring

Hitzeschild

Tantalcarbid (TaC)-Beschichtung im mikroskopischen Querschnitt:

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section

Parameter der VeTek Semiconductor Tantalcarbid-Beschichtung:

Physikalische Eigenschaften der TaC-Beschichtung
Dichte	14,3 (g/cm³)
Spezifischer Emissionsgrad	0.3
Wärmeausdehnungskoeffizient	6,3 10-6/K
Härte (HK)	2000 HK
Widerstand	1×10-5 Ohm*cm
Thermische Stabilität	<2500℃
Graphitgrößenänderungen	-10~-20um
Beschichtungsdicke	≥20um typischer Wert (35um±10um)

TaC-Beschichtung EDX-Daten

TaC coating EDX data

Kristallstrukturdaten der TaC-Beschichtung

Element	Atomprozent
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Durchschnitt
C K	52.10	57.41	52.37	53.96
Ta M	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC-Beschichtungsfutter TaC-beschichtete Planetenscheibe TaC-beschichtete Platte Rotationsplatte mit TaC-Beschichtung TaC-Beschichtungssuszeptor Abdeckung mit CVD-TaC-Beschichtung CVD-TaC-Beschichtungsring TaC-Beschichtungsplatte

Siliziumkarbidbeschichtung

VeTek Semiconductor ist auf die Herstellung hochreiner Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte spezialisiert. Diese Beschichtungen sind für die Anwendung auf gereinigtem Graphit, Keramik und hochschmelzenden Metallkomponenten konzipiert.

Unsere hochreinen Beschichtungen sind vor allem für den Einsatz in der Halbleiter- und Elektronikindustrie bestimmt. Sie dienen als Schutzschicht für Waferträger, Suszeptoren und Heizelemente und schützen sie vor korrosiven und reaktiven Umgebungen, die bei Prozessen wie MOCVD und EPI auftreten. Diese Prozesse sind integraler Bestandteil der Waferverarbeitung und Geräteherstellung. Darüber hinaus eignen sich unsere Beschichtungen gut für Anwendungen in Vakuumöfen und zur Probenerwärmung, wo Hochvakuum, reaktive und Sauerstoffumgebungen herrschen.

Bei VeTek Semiconductor bieten wir mit unseren fortschrittlichen Werkstattkapazitäten eine umfassende Lösung. Dadurch ist es uns möglich, die Basiskomponenten aus Graphit, Keramik oder Refraktärmetallen herzustellen und die SiC- oder TaC-Keramikbeschichtungen im eigenen Haus aufzubringen. Wir bieten auch Beschichtungsdienste für vom Kunden bereitgestellte Teile an und gewährleisten so die Flexibilität, unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden.

Unsere Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte werden häufig in der Si-Epitaxie, SiC-Epitaxie, MOCVD-System, RTP/RTA-Prozess, Ätzprozess, ICP/PSS-Ätzprozess und Prozess verschiedener LED-Typen, einschließlich blauer und grüner LED, UV-LED und tiefem UV, eingesetzt LED usw., die an Geräte von LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI usw. angepasst sind.

Reaktorteile, die wir herstellen können:

Die Siliziumkarbidbeschichtung bietet mehrere einzigartige Vorteile:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor Siliziumkarbid-Beschichtungsparameter:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum	Typischer Wert
Kristallstruktur	Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte	3,21 g/cm³
Härte	2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung	2~10μm
Chemische Reinheit	99,99995 %
Wärmekapazität	640 J·kg-1·K-1
Sublimationstemperatur	2700℃
Biegefestigkeit	415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul	430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit	300W·m-1·K-1
Wärmeausdehnung (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

Ausgewählte Produkte

Über uns

VeTek Semiconductor Technology Co., LTD wurde 2016 gegründet und ist ein führender Anbieter von fortschrittlichen Beschichtungsmaterialien für die Halbleiterindustrie. Unser Gründer, ein ehemaliger Experte des Materialinstituts der Chinesischen Akademie der Wissenschaften, gründete das Unternehmen mit dem Schwerpunkt auf der Entwicklung innovativer Lösungen für die Branche.

Zu unserem Hauptproduktangebot gehören:CVD-Siliziumkarbid (SiC)-Beschichtungen, Tantalcarbid (TaC)-Beschichtungen, SiC-Massen, SiC-Pulver und hochreine SiC-Materialien. Die Hauptprodukte sind SiC-beschichtete Graphitsuszeptoren, Vorheizringe, TaC-beschichtete Umleitungsringe, Halbmondteile usw., die Reinheit liegt unter 5 ppm und kann die Kundenanforderungen erfüllen.