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Waferträger mit CVD-TaC-Beschichtung

VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Wafer Carrier ist ein professioneller Hersteller und Hersteller von Waferträgern mit CVD-TaC-Beschichtung in China und ein Wafer-Transportwerkzeug, das speziell für Hochtemperatur- und korrosive Umgebungen in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Dieses Produkt verfügt über eine hohe mechanische Festigkeit, ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit und thermische Stabilität und bietet die notwendige Garantie für die Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente. Ihre weiteren Anfragen sind willkommen.

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Epi-Waferhalter

VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und eine Fabrik für Epi-Wafer-Halter in China. Epi Wafer Holder ist ein Waferhalter für den Epitaxieprozess in der Halbleiterverarbeitung. Es ist ein wichtiges Werkzeug zur Stabilisierung des Wafers und zur Gewährleistung eines gleichmäßigen Wachstums der Epitaxieschicht. Es wird häufig in Epitaxiegeräten wie MOCVD und LPCVD verwendet. Es ist ein unersetzliches Gerät im Epitaxieprozess. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.

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Aixtron Satellite Wafer-Träger

Als professioneller Hersteller und Innovator von Aixtron Satellite Wafer Carrier-Produkten in China ist der Aixtron Satellite Wafer Carrier von VeTek Semiconductor ein Waferträger, der in AIXTRON-Geräten verwendet wird, hauptsächlich in MOCVD-Prozessen in der Halbleiterverarbeitung eingesetzt wird und sich besonders für Hochtemperatur- und Hochpräzisionsanwendungen eignet Halbleiterverarbeitungsprozesse. Der Träger kann eine stabile Waferunterstützung und eine gleichmäßige Filmabscheidung während des epitaktischen MOCVD-Wachstums gewährleisten, was für den Schichtabscheidungsprozess unerlässlich ist. Begrüßen Sie Ihre weitere Beratung.

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LPE-Halbmond-SiC-EPI-Reaktor

VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller, Innovator und Marktführer für LPE-Halbmond-SiC-EPI-Reaktoren in China. Der LPE Halfmoon SiC EPI Reactor ist ein Gerät, das speziell für die Herstellung hochwertiger Epitaxieschichten aus Siliziumkarbid (SiC) entwickelt wurde, die hauptsächlich in der Halbleiterindustrie verwendet werden. VeTek Semiconductor ist bestrebt, führende Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen und freut sich über Ihre weiteren Anfragen.

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TaC-Beschichtungsheizung

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von TaC-Beschichtungsheizungen in China. Dieses Produkt hat einen extrem hohen Schmelzpunkt (ca. 3880°C). Der hohe Schmelzpunkt des TaC Coating Heater ermöglicht den Betrieb bei extrem hohen Temperaturen, insbesondere beim Wachstum von Galliumnitrid (GaN)-Epitaxieschichten im metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidungsprozess (MOCVD). VeTek Semiconductor ist bestrebt, fortschrittliche Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Physikalische Gasphasenabscheidung

Die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) von Vetek Semiconductor ist eine fortschrittliche Prozesstechnologie, die häufig in der Oberflächenbehandlung und Dünnschichtvorbereitung eingesetzt wird. Die PVD-Technologie nutzt physikalische Methoden, um Materialien direkt von fest oder flüssig in Gas umzuwandeln und einen dünnen Film auf der Oberfläche des Zielsubstrats zu bilden. Diese Technologie bietet die Vorteile hoher Präzision, hoher Gleichmäßigkeit und starker Haftung und wird häufig in Halbleitern, optischen Geräten, Werkzeugbeschichtungen und dekorativen Beschichtungen eingesetzt. Willkommen, um mit uns zu diskutieren!

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