Das Material der Siliziumkarbid-Epitaxieschicht ist Siliziumkarbid, das normalerweise zur Herstellung leistungsstarker elektronischer Geräte und LEDs verwendet wird. Aufgrund seiner hervorragenden thermischen Stabilität, mechanischen Festigkeit und hohen elektrischen Leitfähigkeit wird es häufig in der Halbleiterindustrie eingesetzt.
Hohe Reinheit: Die durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) gewachsene Silizium-Epitaxieschicht weist eine extrem hohe Reinheit, eine bessere Oberflächenebenheit und eine geringere Defektdichte als herkömmliche Wafer auf.
Festes Siliziumkarbid verfügt über hervorragende Eigenschaften wie hohe Temperaturstabilität, hohe Härte, gute Abriebfestigkeit und gute chemische Stabilität und bietet daher ein breites Anwendungsspektrum. Im Folgenden sind einige Anwendungen von massivem Siliziumkarbid aufgeführt: