China Oberflächenbehandlungstechnologie Hersteller, Lieferant, Fabrik

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Physikalische Gasphasenabscheidung

Die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) von Vetek Semiconductor ist eine fortschrittliche Prozesstechnologie, die häufig in der Oberflächenbehandlung und Dünnschichtvorbereitung eingesetzt wird. Die PVD-Technologie nutzt physikalische Methoden, um Materialien direkt von fest oder flüssig in Gas umzuwandeln und einen dünnen Film auf der Oberfläche des Zielsubstrats zu bilden. Diese Technologie bietet die Vorteile hoher Präzision, hoher Gleichmäßigkeit und starker Haftung und wird häufig in Halbleitern, optischen Geräten, Werkzeugbeschichtungen und dekorativen Beschichtungen eingesetzt. Willkommen, um mit uns zu diskutieren!

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MAX Phasen-Nanopulver

Das Phasen-Nanopulver Semiconductor MAX von Veteksemi bietet außergewöhnliche thermische und elektrische Eigenschaften und ist ideal für fortgeschrittene Anwendungen in der Elektronik und den Materialwissenschaften. Mit seiner hervorragenden Oxidationsbeständigkeit und Hochtemperaturstabilität ist das Nanopulver von Veteksemi die perfekte Lösung für innovative Halbleitertechnologien. Willkommen bei uns.

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MLCC-Kondensator mit thermischer Spritztechnologie

Die thermische Spritztechnologie von Vetek Semiconductor spielt eine äußerst wichtige Rolle bei der Beschichtung von Sintertiegeln für hochwertige Mehrschicht-Keramikkondensatormaterialien (MLCC). Mit der kontinuierlichen Miniaturisierung und hohen Leistungsfähigkeit elektronischer Geräte wächst auch die Nachfrage nach MLCC-Kondensatoren mit thermischer Spritztechnologie rasant, insbesondere in High-End-Anwendungen. Um dieser Anforderung gerecht zu werden, müssen die im Sinterprozess verwendeten Tiegel eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und gute Wärmeleitfähigkeit aufweisen, die alle durch die thermische Spritztechnologie erreicht und verbessert werden können. Wir freuen uns darauf, mit Ihnen ein langfristiges Geschäft aufzubauen.

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Wafer-Handling-Roboterarm

Die thermische Spritztechnologie von Vetek Semiconductor spielt eine entscheidende Rolle bei der Anwendung von Roboterarmen zur Waferhandhabung, insbesondere in Halbleiterfertigungsumgebungen, die hohe Präzision und hohe Sauberkeit erfordern. Diese Technologie verbessert die Haltbarkeit, Zuverlässigkeit und Arbeitseffizienz der Ausrüstung erheblich, indem spezielle Materialien auf die Oberfläche des Wafer-Handling-Roboterarms aufgetragen werden. Willkommen bei uns.

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Technologie des thermischen Halbleiterspritzens

Die Halbleiter-Thermalspritztechnologie von Vetek Semiconductor ist ein fortschrittliches Verfahren, bei dem Materialien in geschmolzenem oder halbgeschmolzenem Zustand auf die Oberfläche eines Substrats gesprüht werden, um eine Beschichtung zu bilden. Diese Technologie ist im Bereich der Halbleiterfertigung weit verbreitet und wird hauptsächlich zur Herstellung von Beschichtungen mit spezifischen Funktionen auf der Oberfläche des Substrats verwendet, wie z. B. Leitfähigkeit, Isolierung, Korrosionsbeständigkeit und Oxidationsbeständigkeit. Zu den Hauptvorteilen der thermischen Spritztechnologie gehören hohe Effizienz, kontrollierbare Beschichtungsdicke und gute Beschichtungshaftung, was sie besonders wichtig im Halbleiterfertigungsprozess macht, der hohe Präzision und Zuverlässigkeit erfor......

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