China Siliziumnitrid Hersteller, Lieferant, Fabrik

VeTek Semiconductor konzentriert sich auf die Herstellung von Siliziumnitrid und verfügt über ein Forschungs- und Entwicklungsteam, das aus erfahrenen Experten und Top-Techniktalenten besteht. Siliziumnitridkeramik weist die Vorteile von Härte, Wärmebeständigkeit, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit allgemeiner Keramikmaterialien auf und weist die Vorteile einer guten Wärmeschockbeständigkeit, Kriechfestigkeit bei hohen Temperaturen, einer guten Selbstschmierung und einer guten chemischen Stabilität auf und ist weit verbreitet Wird in den Bereichen neue Energie, chemische Industrie, Luft- und Raumfahrt und Halbleiter eingesetzt.

Die Siliziumnitrid-Materialien von VeTek Semiconductor bieten folgende herausragende Vorteile:

1. Ausgezeichnete chemische Stabilität

Siliziumnitridkeramik weist eine ausgezeichnete chemische Stabilität auf und kann einer Vielzahl starker Säuren, Laugen und korrosiven Gasen standhalten. Im Halbleiterherstellungsprozess müssen häufig korrosive Chemikalien eingesetzt werden. Siliziumnitridkeramik kann eine langfristig stabile Leistungsgarantie bieten.

2. Hervorragende mechanische Eigenschaften

Siliziumnitridkeramik weist eine hohe Härte, ausgezeichnete Druckfestigkeit und Verschleißfestigkeit auf, hält mechanischer Beanspruchung und Oberflächenverschleiß stand und verformt sich nicht leicht oder bricht. Aufgrund dieser mechanischen Eigenschaften eignet es sich sehr gut als Material für Struktur- und Prozessteile in Halbleitergeräten.

3. Hochtemperaturstabilität

Siliziumnitridkeramik kann in Umgebungen mit hohen Temperaturen ihre Stabilität beibehalten, ist nicht leicht zu erweichen oder zu schmelzen und hält der Hochtemperaturverarbeitung und -handhabung im Halbleiterherstellungsprozess stand. Dadurch kann es bei der Herstellung von Schlüsselkomponenten für Hochtemperatur-Prozessanlagen wie Greifern, Reaktionskammerkomponenten usw. verwendet werden.

4. Hervorragende Isoliereigenschaften

Isoliereigenschaften sind bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen von entscheidender Bedeutung. Siliziumnitridkeramik verfügt über gute Isoliereigenschaften, die Schaltungskomponenten wirksam isolieren und vor Stromlecks oder elektromagnetischen Störungen schützen können, was zur Verbesserung der Stabilität und Zuverlässigkeit des Geräts beiträgt.

5. Wärmeleitfähigkeit und Wärmeleitfähigkeit

Siliziumnitridkeramik verfügt über eine hohe Wärmeleitfähigkeit, kann die vom Gerät erzeugte Wärme effektiv leiten und ableiten und trägt so dazu bei, die Temperaturstabilität des Geräts im Betriebsprozess aufrechtzuerhalten. Dies ist entscheidend für den Hochleistungsbetrieb von Halbleiterbauelementen.

Zu den Anwendungen der Siliziumnitrid-Materialien von VeTek Semiconductor in der Solar- und Halbleiterindustrie gehören hauptsächlich:

1. Elektrostatische Spannfutter und Ätzkammerkomponenten

Aufgrund ihrer hervorragenden chemischen Stabilität und hohen Temperaturbeständigkeit werden Siliziumnitridkeramiken häufig als Materialien für elektrostatische Haltevorrichtungen und Ätzkammerkomponenten in der Halbleiterfertigung verwendet. Elektrostatische Haltevorrichtungen werden zum Fixieren und Stabilisieren von Wafern oder Substraten verwendet, während Ätzkammerkomponenten dazu dienen, korrosiven Gasen und Umgebungen mit hohen Temperaturen standzuhalten.

2. Gasverteilerplatten und Reflektoren

Siliziumnitridkeramik wird auch bei der Herstellung von Halbleitergeräten in Gasverteilungsplatten und Reflektoren verwendet. Gasverteilerplatten dienen zur gleichmäßigen Verteilung von Reaktiv- oder Schutzgasen in der Reaktionskammer, während Reflektoren zur Optimierung der Lichtverteilung und -reflexion innerhalb der Reaktionskammer eingesetzt werden, um die Effizienz und Gleichmäßigkeit der Reaktion zu verbessern.

3. Halter und thermische Komponenten

Siliziumnitridkeramiken werden häufig als Halterungen und Wärmemanagementkomponenten in Halbleiterfertigungsanlagen verwendet. Diese Komponenten müssen über eine gute mechanische Festigkeit, Verschleißfestigkeit und Wärmeleitfähigkeit verfügen, um einen stabilen Gerätebetrieb und eine hohe Verarbeitungsgenauigkeit der Geräte zu gewährleisten.

4. Pads für chemisch-mechanisches Polieren (CMP).

Siliziumnitridkeramik wird häufig als Padmaterial im chemisch-mechanischen Polierprozess (CMP) verwendet. Es verfügt über eine hervorragende Ebenheit und Verschleißfestigkeit und kann während des Poliervorgangs eine stabile Unterstützung bieten, um die Ebenheit und Präzision der Halbleiterwaferoberfläche sicherzustellen.