Aluminiumoxid-Keramik-Vakuumspannfutter

Alumina Ceramic Vacuum Chuck ist ein Waferhalter für epitaktische Prozesse in der Halbleiterverarbeitung. Es ist ein wichtiges Werkzeug zur Stabilisierung von Wafern und zur Gewährleistung eines gleichmäßigen Wachstums epitaktischer Schichten. Es wird häufig in Epitaxiegeräten wie zMOCVDUndLPCVD.

VeTek SemiconductorAluminiumoxid-Keramik-Vakuumspannfutter spielt eine wichtige Rolle bei der Wafer-Ausdünnung und beim Schleifen von Halbleitern. In diesen Schritten wird die Dicke des Bauteils präzise reduziertWafer-Substratum die Chip-Wärmeableitung zu verbessern, was für die Verbesserung der Effizienz und Lebensdauer von Halbleiterbauelementen unerlässlich ist.

Kompatibel mit mehreren Wafergrößen: VeTek Semiconductor Alumina Ceramic Vacuum Chuck ist für die Unterstützung einer Vielzahl von Wafergrößen konzipiert, darunter 2, 3, 4, 5, 6, 8 und 12 Zoll. Durch diese Anpassungsfähigkeit eignet es sich für eine Vielzahl von Halbleiterproduktionsumgebungen und gewährleistet eine gleichbleibende und zuverlässige Leistung über verschiedene Wafergrößen hinweg.

Überlegene Materialzusammensetzung: Die Basis des Aluminiumoxid-Keramik-Vakuumspannfutters besteht aus hochreinem 99,9999 % Aluminiumoxid (Al).₂O₃), das eine hervorragende Beständigkeit gegen chemische Angriffe und thermische Stabilität bietet. Die Spannfutteroberfläche ist porösSiliziumkarbid (SiC). Das poröse Keramikmaterial hat eine dichte und gleichmäßige Struktur, was seine Haltbarkeit und Leistung verbessert.

Vorteile vonPoröse Keramiktechnologie：

Materialreinheit und Haltbarkeit: Unser Aluminiumoxid-Keramik-Vakuumspannfutter besteht zu 99,99 % aus reinem Aluminiumoxid, widersteht chemischen Angriffen und bietet eine hervorragende thermische Stabilität, wodurch es sich ideal für extrem anspruchsvolle Fertigungsumgebungen eignet.

Optimale Porosität und Luftdurchlässigkeit: Gleichmäßig verteilte Mikroporen sorgen für hervorragende Luftdurchlässigkeit und gleichmäßige Adsorptionskraft, was zu einem reibungslosen und gleichmäßigen Betrieb führt.

Verbesserte Ebenheit und Parallelität: Vakuumspannfutter aus mikroporöser Aluminiumoxidkeramik zeichnen sich durch eine hervorragende Ebenheit und Parallelität aus und gewährleisten eine präzise Waferhandhabung und Stabilität.

Maßgeschneiderte Servicefunktionen: VeTekSemi kann eine Vielzahl anpassbarer Formen anbieten, darunter runde, quadratische, ringförmige und andere Designs mit einer Dicke von 3 mm bis 10 mm. Diese individuelle Anpassung stellt sicher, dass unsere Aluminiumoxid-Keramik-Vakuumspannfutter die spezifischen Anforderungen verschiedener Halbleiterfertigungsprozesse erfüllen und definitiv Ihre ideale Wahl sind.

VeTek Semiconductorist bestrebt, fortschrittliche Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen, und wir hoffen aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.

DerChemische Formel vonAluminiumoxidkeramik：

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