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SiC-beschichteter Graphit-MOCVD-Heizer

SiC-beschichteter Graphit-MOCVD-Heizer

VeTeK Semiconductor produziert SiC-beschichtete Graphit-MOCVD-Heizgeräte, die eine Schlüsselkomponente des MOCVD-Prozesses sind. Basierend auf einem hochreinen Graphitsubstrat ist die Oberfläche mit einer hochreinen SiC-Beschichtung versehen, um eine hervorragende Hochtemperaturstabilität und Korrosionsbeständigkeit zu gewährleisten. Mit hoher Qualität und hochgradig maßgeschneiderten Produktdienstleistungen ist der MOCVD-Heizer mit SiC-Beschichtungsgraphit von VeTeK Semiconductor die ideale Wahl, um die Stabilität des MOCVD-Prozesses und die Qualität der Dünnschichtabscheidung sicherzustellen. VeTeK Semiconductor freut sich darauf, Ihr Partner zu werden.

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CVD-TaC-beschichteter planetarischer epitaktischer SiC-Suszeptor

CVD-TaC-beschichteter planetarischer epitaktischer SiC-Suszeptor

Der epitaktische SiC-Suszeptor mit CVD-TaC-Beschichtung ist eine der Kernkomponenten des MOCVD-Planetenreaktors. Durch die CVD-TaC-Beschichtung des planetarischen epitaktischen SiC-Suszeptors wird die große Scheibe umkreist und die kleine Scheibe rotiert, und das horizontale Strömungsmodell wird auf Multi-Chip-Maschinen ausgeweitet, so dass es sowohl das hochwertige epitaktische Wellenlängengleichmäßigkeitsmanagement als auch die Defektoptimierung von Einzelchips bietet -Chip-Maschinen und die Produktionskostenvorteile von Multi-Chip-Maschinen. VeTek Semiconductor kann seinen Kunden hochgradig maßgeschneiderte, planetarische SiC-Epitaxie-Suszeptoren mit CVD-TaC-Beschichtung anbieten. Wenn auch Sie einen planetarischen MOCVD-Ofen wie Aixtron bauen möchten, kommen Sie zu uns!

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SiC-Beschichtung. Monokristalline Silizium-Epitaxieschale

SiC-Beschichtung. Monokristalline Silizium-Epitaxieschale

Die monokristalline Silizium-Epitaxieschale mit SiC-Beschichtung ist ein wichtiges Zubehör für den Epitaxie-Wachstumsofen für monokristallines Silizium und sorgt für minimale Verschmutzung und eine stabile Epitaxie-Wachstumsumgebung. Die monokristalline Silizium-Epitaxieschale von VeTek Semiconductor mit SiC-Beschichtung hat eine extrem lange Lebensdauer und bietet eine Vielzahl von Anpassungsoptionen. VeTek Semiconductor freut sich darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Massiver SiC-Waferträger

Massiver SiC-Waferträger

Der solide SiC-Waferträger von VeTek Semiconductor ist für hochtemperatur- und korrosionsbeständige Umgebungen in Halbleiter-Epitaxieprozessen konzipiert und eignet sich für alle Arten von Waferherstellungsprozessen mit hohen Reinheitsanforderungen. VeTek Semiconductor ist ein führender Anbieter von Waferträgern in China und freut sich darauf, Ihr langfristiger Partner in der Halbleiterindustrie zu werden.

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SiC-beschichtete Satellitenabdeckung für MOCVD

SiC-beschichtete Satellitenabdeckung für MOCVD

Als führender Hersteller und Lieferant von SiC-beschichteten Satellitenabdeckungen für MOCVD-Produkte in China verfügen Vetek Semiconductor SiC-beschichtete Satellitenabdeckungen für MOCVD-Produkte über eine extrem hohe Temperaturbeständigkeit, ausgezeichnete Oxidationsbeständigkeit und ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit und spielen eine unersetzliche Rolle bei der Gewährleistung einer hochwertigen Epitaxie Wachstum auf Wafern. Begrüßen Sie Ihre weiteren Anfragen.

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Massiver scheibenförmiger Duschkopf aus SiC

Massiver scheibenförmiger Duschkopf aus SiC

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller von Halbleitergeräten in China und ein professioneller Hersteller und Lieferant von scheibenförmigen Duschköpfen aus massivem SiC. Unser scheibenförmiger Duschkopf wird häufig in der Dünnfilmabscheidungsproduktion wie dem CVD-Prozess eingesetzt, um eine gleichmäßige Verteilung des Reaktionsgases sicherzustellen, und ist eine der Kernkomponenten des CVD-Ofens.

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