Poröses Keramik-Vakuumfutter

Vetek Semiconductor ist ein chinesischer Hersteller von porösen Keramik-Vakuumspannfuttern, die zum Fixieren und Halten von Siliziumwafern oder anderen Substraten durch Vakuumadsorption verwendet werden, um sicherzustellen, dass sich diese Materialien während der Verarbeitung nicht verschieben oder verziehen. Vetek Semiconducto kann hochreine poröse Keramik-Vakuumspannfutterprodukte mit hohem Preis-Leistungs-Verhältnis anbieten. Gerne können Sie sich erkundigen.

Vetek Semiconductor bietet eine Reihe hervorragender Vakuum-Chuck-Produkte aus poröser Keramik an, die speziell für die strengen Anforderungen der modernen Halbleiterfertigung entwickelt wurden. Diese Träger zeichnen sich durch hervorragende Leistung in Bezug auf Sauberkeit, Ebenheit und anpassbare Gaswegkonfiguration aus.

Beispiellose Sauberkeit:

Beseitigung von Verunreinigungen: Jeder poröse Keramik-Vakuumspanner wird 1,5 Stunden lang bei 1200 °C gesintert, um Verunreinigungen vollständig zu entfernen und sicherzustellen, dass die Oberfläche so sauber wie neu ist.

Vakuumverpackung: Um den sauberen Zustand aufrechtzuerhalten, ist das Porous Ceramic Vacuum Chuck vakuumverpackt, um eine Kontamination während der Lagerung und des Transports zu verhindern.

Ausgezeichnete Ebenheit:

Adsorption fester Wafer: Der poröse Keramik-Vakuumspanner hält eine Adsorptionskraft von -60 kPa bzw. -70 kPa vor und nach der Wafer-Platzierung aufrecht und stellt so sicher, dass der Wafer fest adsorbiert ist und verhindert, dass er während der Hochgeschwindigkeitsübertragung herunterfällt.

Präzisionsbearbeitung: Die Rückseite des Trägers ist präzisionsbearbeitet, um eine völlig ebene Oberfläche zu gewährleisten, wodurch eine stabile Vakuumdichtung gewährleistet und Leckagen verhindert werden.

Individuelles Design:

Kundenzentriert: Vetek Semiconductor arbeitet eng mit Kunden zusammen, um Gaspfadkonfigurationen zu entwerfen, die ihre spezifischen Prozessanforderungen erfüllen, um Effizienz und Leistung zu optimieren.

Strenge Qualitätsprüfung:

Vetek führt umfassende Tests an jedem Stück des porösen SiC-Vakuumspannfutters durch, um dessen Qualität sicherzustellen:

Oxidationstest: Der SiC-Vakuumspanner wird in einer sauerstofffreien Umgebung schnell auf 900 °C erhitzt, um den tatsächlichen Oxidationsprozess zu simulieren. Zuvor wird der Träger bei 1100 °C geglüht, um eine optimale Leistung zu gewährleisten.

Metallrückstandstest: Um eine Kontamination zu verhindern, wird der Träger auf eine hohe Temperatur von 1200 °C erhitzt, um festzustellen, ob sich Metallverunreinigungen abgesetzt haben.

Vakuumtest: Durch Messung der Druckdifferenz zwischen dem Porous SiC Vacuum Chuck mit und ohne Wafer wird seine Vakuumdichtleistung streng getestet. Der Druckunterschied muss innerhalb von ±2 kPa kontrolliert werden.

Eigenschaftentabelle für poröse Keramik-Vakuumspannfutter:

VeTek Semiconductor Porous SiC Vacuum Chuck Shops: