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Poröses SiC-Keramikfutter
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Poröses SiC-Keramikfutter

Vetek Semiconductor bietet poröse SiC-Keramik-Chucks an, die häufig in der Waferverarbeitungstechnologie, Transfer- und anderen Verbindungen eingesetzt werden und zum Bonden, Ritzen, Patchen, Polieren und anderen Verbindungen sowie der Laserbearbeitung geeignet sind. Unser poröses SiC-Keramikfutter verfügt über eine extrem starke Vakuumadsorption, hohe Ebenheit und hohe Reinheit und erfüllt die Anforderungen der meisten Halbleiterindustrien. Willkommen bei uns.

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Produktbeschreibung


Das poröse SiC-Keramikfutter von Vetek Semiconductor wurde von vielen Kunden gut angenommen und genießt in vielen Ländern einen guten Ruf. Das poröse Keramik-Vakuumfutter von Vetek Semiconductor zeichnet sich durch ein charakteristisches Design, praktische Leistung und einen wettbewerbsfähigen Preis aus. Für weitere Informationen zum porösen Keramik-Vakuumfutter können Sie sich gerne an uns wenden.

Poröse SiC-Keramikfutter werden auch Mikroporositäts-Vakuumnäpfe genannt. Die allgemeine Porosität kann auf eine Größe von 2 bis 100 um eingestellt werden. Dies bezieht sich auf den speziellen Nanopulver-Herstellungsprozess, um durch Hochtemperatursintern im Material eine gleichmäßige Feststoff- oder Vakuumkugel zu erzeugen erzeugen eine große Anzahl verbundener oder geschlossener keramischer Materialien. Mit seiner speziellen Struktur bietet es die Vorteile hoher Temperaturbeständigkeit, Verschleißfestigkeit, chemischer Korrosionsbeständigkeit, hoher mechanischer Festigkeit, einfacher Regeneration und ausgezeichneter Thermoschockbeständigkeit usw., die für Hochtemperaturfiltrationsmaterialien, Katalysatorträger und Poren verwendet werden können Elektroden von Brennstoffzellen, empfindliche Komponenten, Trennmembranen, Biokeramik usw., die einzigartige Anwendungsvorteile in der chemischen Industrie, im Umweltschutz, im Energiebereich, in der Elektronik, in der Biochemie und in anderen Bereichen aufweisen.


Das poröse SiC-Keramikfutter findet umfangreiche Anwendungen in der Verarbeitung und Übertragung von Halbleiterwafern. Es eignet sich für Aufgaben wie Kleben, Ritzen, Matrizenbefestigung, Polieren und Laserbearbeitung.



Unsere Vorteile:

Anpassung: Wir passen die Komponenten perfekt an die Form und das Material Ihres Wafers sowie an Ihre spezifische Ausrüstung und Betriebsbedingungen an.

Maßgenauigkeit: Wir können Maßgenauigkeit erreichen, um Ihre genauen Spezifikationen zu erfüllen. Beispielsweise können wir Spannfutter für 8-Zoll-Wafer mit einer Ebenheit von weniger als 3 μm und für 12-Zoll-Wafer mit einer Ebenheit von weniger als 5 μm herstellen.

Porengröße und Porosität: Unsere porösen Keramikspannfutter verfügen über eine Porengröße von 20–50 μm und einen Porositätsgrad zwischen 35–55 %, was eine optimale Leistung bei verschiedenen Verarbeitungsanwendungen gewährleistet.

Ganz gleich, ob Sie ein Einzelstück zur Bewertung oder maßgeschneiderte Spannfutter für mehrere Werkstücke benötigen, wir sind bestrebt, Ihre Maß- und Materialanforderungen präzise und präzise zu erfüllen

Exzellenz. Kontaktieren Sie uns gerne für weitere Fragen oder um Ihre spezifischen Bedürfnisse zu besprechen.


Poröses SiC-Keramikfutter. Produktbild unter dem Mikroskop



Liste der Eigenschaften poröser SiC-Keramik
Artikel Einheit Poröse SiC-Keramik
Porosität eins 10-30
Dichte g/cm3 1.2-1.3
Rauheit eins 2,5-3
Saugwert KPA -45
Biegefestigkeit MPa 30
Induktivität 1 MHz 33
Wärmeübertragungsrate W/(m·K) 60-70


Produktionsstätten für poröse SiC-Keramikfutter:


Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:

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