China Siliziumkarbidbeschichtung Hersteller, Lieferant, Fabrik

VeTek Semiconductor ist auf die Herstellung hochreiner Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte spezialisiert. Diese Beschichtungen sind für die Anwendung auf gereinigtem Graphit, Keramik und hochschmelzenden Metallkomponenten konzipiert.

Unsere hochreinen Beschichtungen sind vor allem für den Einsatz in der Halbleiter- und Elektronikindustrie bestimmt. Sie dienen als Schutzschicht für Waferträger, Suszeptoren und Heizelemente und schützen sie vor korrosiven und reaktiven Umgebungen, die bei Prozessen wie MOCVD und EPI auftreten. Diese Prozesse sind integraler Bestandteil der Waferverarbeitung und Geräteherstellung. Darüber hinaus eignen sich unsere Beschichtungen gut für Anwendungen in Vakuumöfen und zur Probenerwärmung, wo Hochvakuum, reaktive und Sauerstoffumgebungen herrschen.

Bei VeTek Semiconductor bieten wir mit unseren fortschrittlichen Werkstattkapazitäten eine umfassende Lösung. Dadurch ist es uns möglich, die Basiskomponenten aus Graphit, Keramik oder Refraktärmetallen herzustellen und die SiC- oder TaC-Keramikbeschichtungen im eigenen Haus aufzubringen. Wir bieten auch Beschichtungsdienste für vom Kunden bereitgestellte Teile an und gewährleisten so die Flexibilität, unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden.

Unsere Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte werden häufig in der Si-Epitaxie, SiC-Epitaxie, MOCVD-System, RTP/RTA-Prozess, Ätzprozess, ICP/PSS-Ätzprozess und Prozess verschiedener LED-Typen, einschließlich blauer und grüner LED, UV-LED und tiefem UV, eingesetzt LED usw., die an Geräte von LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI usw. angepasst sind.

Reaktorteile, die wir herstellen können:

Die Siliziumkarbidbeschichtung bietet mehrere einzigartige Vorteile:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

VeTek Semiconductor Siliziumkarbid-Beschichtungsparameter:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum	Typischer Wert
Kristallstruktur	Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte	3,21 g/cm³
Härte	2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung	2~10μm
Chemische Reinheit	99,99995 %
Wärmekapazität	640 J·kg-1·K-1
Sublimationstemperatur	2700℃
Biegefestigkeit	415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul	430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit	300W·m-1·K-1
Wärmeausdehnung (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

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CVD-SiC-beschichteter Wafer-Fasshalter

Der CVD-SiC-beschichtete Wafer-Zylinderhalter ist die Schlüsselkomponente des Epitaxie-Wachstumsofens und wird häufig in MOCVD-Epitaxie-Wachstumsöfen verwendet. VeTek Semiconductor bietet Ihnen hochgradig maßgeschneiderte Produkte. Ganz gleich, welche Anforderungen Sie an einen CVD-SiC-beschichteten Wafer-Zylinderhalter haben, wir heißen Sie herzlich willkommen, uns zu konsultieren.

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Zylindersuszeptor mit CVD-SiC-Beschichtung

Der CVD-SiC-Beschichtungszylindersuszeptor von VeTek Semiconductor ist die Kernkomponente des fassartigen Epitaxieofens. Mit Hilfe des CVD-SiC-Beschichtungszylindersuszeptors werden Quantität und Qualität des epitaktischen Wachstums erheblich verbessert. VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von SiC-beschichteten Barrel Susceptor und ist in China und sogar weltweit führend. VeTek Semiconductor freut sich darauf, eine enge Zusammenarbeit mit Ihnen aufzubauen Halbleiterindustrie.

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CVD-SiC-Beschichtungswafer-Epi-Suszeptor

Der CVD-SiC-Beschichtungswafer-Epi-Suszeptor von VeTek Semiconductor ist eine unverzichtbare Komponente für das SiC-Epitaxiewachstum und bietet ein hervorragendes Wärmemanagement, chemische Beständigkeit und Dimensionsstabilität. Durch die Wahl des CVD-SiC-Beschichtungswafer-Epi-Suszeptors von VeTek Semiconductor steigern Sie die Leistung Ihrer MOCVD-Prozesse, was zu qualitativ hochwertigeren Produkten und größerer Effizienz in Ihren Halbleiterfertigungsabläufen führt. Begrüßen Sie Ihre weiteren Anfragen.

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CVD-SiC-beschichteter Graphitsuszeptor

VeTek Semiconductors CVD-SiC-beschichteter Graphitsuszeptor ist eine der wichtigen Komponenten in der Halbleiterindustrie wie Epitaxiewachstum und Waferverarbeitung. Es wird in MOCVD- und anderen Geräten zur Unterstützung der Verarbeitung und Handhabung von Wafern und anderen hochpräzisen Materialien eingesetzt. VeTek Semiconductor verfügt über Chinas führende Produktions- und Fertigungskapazitäten für SiC-beschichtete Graphit-Suszeptoren und TaC-beschichtete Graphit-Suszeptoren und freut sich auf Ihre Beratung.

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Heizelement mit CVD-SiC-Beschichtung

CVD-SiC-Beschichtungsheizelemente spielen eine zentrale Rolle beim Erhitzen von Materialien in PVD-Öfen (Evaporation Deposition). VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller von CVD-SiC-beschichteten Heizelementen in China. Wir verfügen über fortschrittliche CVD-Beschichtungskapazitäten und können Ihnen maßgeschneiderte CVD-SiC-Beschichtungsprodukte liefern. VeTek Semiconductor freut sich darauf, Ihr Partner für SiC-beschichtete Heizelemente zu werden.

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Rotierender Empfänger aus Graphit

Rotierende Suszeptoren aus hochreinem Graphit spielen eine wichtige Rolle beim epitaktischen Wachstum von Galliumnitrid (MOCVD-Prozess). VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Lieferant von Graphit-Rotationssuszeptoren in China. Auf Basis hochreiner Graphitmaterialien haben wir viele hochreine Graphitprodukte entwickelt, die den Anforderungen der Halbleiterindustrie voll und ganz gerecht werden. VeTek Semiconductor freut sich darauf, Ihr Partner für rotierende Graphitsuszeptoren zu werden.

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Als professioneller Siliziumkarbidbeschichtung Hersteller und Lieferant in China verfügen wir über eine eigene Fabrik. Egal, ob Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, um den spezifischen Anforderungen Ihrer Region gerecht zu werden, oder fortschrittliche und langlebige Produkte aus China kaufen möchten, Sie können uns eine Nachricht hinterlassen.