Siliziumkarbid-Waferfutter

VeTek Semiconductor Siliziumkarbid-Waferfutter nutzt die hervorragenden Eigenschaften von Siliziumkarbid-Materialien, um die strengen Anforderungen der Halbleiterproduktion zu erfüllen, insbesondere bei der Halbleiterverarbeitung, die extrem hohe Präzision und Zuverlässigkeit erfordert.

Im HalbleiterverarbeitungsprozessSiliziumkarbidverfügt über eine ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit (kann bei bis zu 1400 °C stabil arbeiten), geringe Leitfähigkeit (SiC hat eine relativ niedrige Leitfähigkeit, typischerweise 10^).^-3S/m) und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten (ca. 4,0 × 10^).^-6/°C), ein unverzichtbares und wichtiges Material, das sich besonders für die Herstellung von Siliziumkarbid-Wafer-Chucks eignet.

Während derepitaktischer WachstumsprozessDabei wird eine dünne Schicht aus Halbleitermaterial auf einem Substrat abgeschieden, was absolute Stabilität des Wafers erfordert, um gleichmäßige und qualitativ hochwertige Filmabscheidungsschichten zu gewährleisten. Der SiC-Vakuumspanner erreicht dies, indem er einen festen, gleichmäßigen Vakuumhalt erzeugt, um jegliche Bewegung oder Verformung des Wafers zu verhindern.

Das Siliziumkarbid-Wafer-Chuck bietet außerdem eine hervorragende Beständigkeit gegen Temperaturschocks. Bei der Halbleiterfertigung kommt es häufig zu schnellen Temperaturschwankungen, und Materialien, die diesen Schwankungen nicht standhalten können, können reißen, sich verbiegen oder versagen. Siliziumkarbid hat einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten und kann seine Form und Funktion auch bei drastischen Temperaturänderungen beibehalten. Dadurch wird sichergestellt, dass der Wafer während des Epitaxieprozesses ohne Bewegung oder Fehlausrichtung sicher bleibt.

Darüber hinaus ist dieEpitaxieverfahrenDabei handelt es sich häufig um reaktive Gase und andere korrosive Chemikalien. Die chemische Inertheit des SiC-Wafer-Chucks stellt sicher, dass er von diesen rauen Umgebungen nicht beeinträchtigt wird, wodurch seine Leistung erhalten bleibt und seine Lebensdauer verlängert wird. Diese chemische Beständigkeit reduziert nicht nur die Häufigkeit des Wafer-Chuck-Austauschs, sondern sorgt auch für eine gleichbleibende Produktleistung über mehrere Produktionszyklen hinweg und trägt so zur Verbesserung der Gesamteffizienz und Kosteneffizienz des Halbleiterherstellungsprozesses bei.

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Lieferant von Siliziumkarbid-Wafer-Chuck-Produkten in China. Wir können verschiedene Arten von Chuck-Produkten anbieten, wie zPoröses SiC-Keramikfutter, Poröses SiC-Vakuumfutter, Poröses Keramik-VakuumfutterUndTaC-beschichtetes Spannfutterusw. VeTek Semiconductor ist bestrebt, fortschrittliche Technologie und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Wir hoffen aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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