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4°-Off-Axis-p-Typ-SiC-Wafer
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4°-Off-Axis-p-Typ-SiC-Wafer

VeTek Semiconductor ist ein professioneller chinesischer Hersteller von 4°-off-axis p-Typ-SiC-Wafern, 4H-N-Typ-SiC-Substraten und 4H-halbisolierenden SiC-Substraten. Unter ihnen ist der 4°-Axis-p-Typ-SiC-Wafer ein spezielles Halbleitermaterial, das in elektronischen Hochleistungsgeräten verwendet wird. VeTek Semiconductor ist bestrebt, fortschrittliche Lösungen für verschiedene SiC-Wafer-Produkte für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Wir freuen uns sehr auf Ihre weitere Beratung.

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Produktbeschreibung

Als professioneller Halbleiterhersteller in China bezieht sich VeTek Semiconductor 4°off axis p-type SiC Wafer auf 4H-Siliziumkarbid (SiC)-Wafer, die beim Schneiden und 4° von der Hauptkristallrichtung des Kristalls (normalerweise der c-Achse) abweichen unterliegen einer P-Typ-Dotierung. Dieses Produkt wird üblicherweise bei der Herstellung von Leistungselektronikgeräten und Hochfrequenzgeräten (RF) in der Halbleiterindustriekette verwendet und bietet hervorragende Produktvorteile.


Durch Off-Axis-Schneiden kann der 4° Off-Axis-p-Typ-SiC-Wafer von VeTek Semiconductor Versetzungen und Defekte, die während des Wachstums der Epitaxieschicht entstehen, effektiv reduzieren und so die Qualität des Wafers verbessern. Darüber hinaus trägt die 4° Off-Axis-Ausrichtung dazu bei, eine gleichmäßigere und defektfreie Epitaxieschicht aufzubauen, verbessert die Qualität der Epitaxieschicht und eignet sich im Allgemeinen für die Herstellung von Hochleistungsgeräten.


Darüber hinaus können VeTek Semiconductors 4°-off-axis p-Typ-SiC-Wafer-Produkte dafür sorgen, dass der Wafer mehr Lochträger aufweist und durch Dotierung mit Akzeptorverunreinigungen (wie Aluminium oder Bor) einen P-Typ-Halbleiter bildet. 4H-SiC-Wafer vom P-Typ werden häufig bei der Herstellung von Leistungsgeräten verwendet, die eine Schicht vom P-Typ erfordern. Dieser Halbleitertyp verfügt über hervorragende elektrische Eigenschaften.


Im Vergleich zu anderen Polymorphen wie 6H-SiC,4H-SiCverfügt über eine höhere Elektronenmobilität und elektrische Durchschlagsfeldstärke und ist für Hochfrequenz- und Hochleistungsszenarien geeignet. Darüber hinaus weisen 4H-SiC-Materialien eine hervorragende Hochspannungs- und Hochtemperaturbeständigkeit auf und können in rauen Umgebungen normal funktionieren.


2 Zoll 4 Zoll 4° Off-Axis-p-Typ-SiC-Wafergrößenbezogene Standards


6-Zoll-4°-Off-Axis-p-Typ-SiC-Wafergrößenstandards

Methoden und Terminologie zur Detektion von 4°-Off-Axis-p-Typ-SiC-Wafern


VeTek Semiconductor verfügt bereits über 4H-SiC-Substrate vom p-Typ mit 4°-Off-Axis-Abstand von 2 bis 6 Zoll.Das Substrat ist mit Aluminium dotiert und erscheint blau. Der spezifische Widerstand liegt zwischen 0,1 und 0,7 Ω·cm. 


Wenn Sie Produktanforderungen für 4° außeraxiale p-Typ-SiC-Wafer haben, können Sie sich gerne an uns wenden.

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