Cantilever-Paddel aus hochreinem SiC

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von Cantilever-Paddeln aus hochreinem SiC in China. Cantilever-Paddel aus hochreinem SiC werden häufig in Halbleiter-Diffusionsöfen als Wafer-Transfer- oder Ladeplattformen verwendet. VeTek Semiconductor ist bestrebt, fortschrittliche Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

Anfrage absenden

Produktbeschreibung

Hochreines SiC-Cantilever-Paddel ist eine Schlüsselkomponente für Halbleiterverarbeitungsgeräte. Das Produkt besteht aus hochreinem Siliziumkarbid (SiC)-Material. In Kombination mit seinen hervorragenden Eigenschaften hoher Reinheit, hoher thermischer Stabilität und Korrosionsbeständigkeit wird es häufig in Prozessen wie Wafertransfer, Waferunterstützung und Hochtemperaturverarbeitung eingesetzt und bietet eine zuverlässige Garantie für die Sicherstellung von Prozessgenauigkeit und Produktqualität.

Im Allgemeinen spielt das hochreine SiC-Cantilever-Paddel die folgenden spezifischen Rollen im Halbleiterverarbeitungsprozess:

Wafertransfer: Hochreines SiC-Cantilever-Paddel wird normalerweise als Wafer-Transfervorrichtung in Hochtemperatur-Diffusions- oder Oxidationsöfen verwendet. Seine hohe Härte macht es verschleißfest und verformt sich bei längerem Gebrauch nicht leicht und kann sicherstellen, dass der Wafer während des Transfervorgangs genau positioniert bleibt. In Kombination mit seiner hohen Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit kann es Wafer in Umgebungen mit hohen Temperaturen sicher in das Ofenrohr hinein und aus diesem heraus transportieren, ohne dass es zu Verunreinigungen oder Schäden an den Wafern kommt.

Wafer-Unterstützung: SiC-Material hat einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, was bedeutet, dass sich seine Größe bei Temperaturänderungen weniger ändert, was dazu beiträgt, eine präzise Kontrolle im Prozess aufrechtzuerhalten. Bei chemischen Gasphasenabscheidungsprozessen (CVD) oder physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen (PVD) wird das SiC Cantilever Paddle zur Unterstützung und Fixierung des Wafers verwendet, um sicherzustellen, dass der Wafer während des Abscheidungsprozesses stabil und flach bleibt, wodurch die Gleichmäßigkeit und Qualität des Films verbessert wird .

Anwendung von Hochtemperaturprozessen: SiC Cantilever Paddle hat eine ausgezeichnete thermische Stabilität und hält Temperaturen von bis zu 1600 °C stand. Daher wird dieses Produkt häufig beim Hochtemperaturglühen, bei der Oxidation, bei der Diffusion und anderen Prozessen eingesetzt.

Grundlegende physikalische Eigenschaften des Cantilever-Paddels aus hochreinem SiC:

Cantilever-Paddel aus hochreinem SiCGeschäfte:

Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:

Hot-Tags: Hochreines SiC-Cantilever-Paddel, China, Hersteller, Lieferant, Fabrik, kundenspezifisch, kaufen, fortschrittlich, langlebig, hergestellt in China