CVD-SiC-beschichteter Zylindersuszeptor

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von CVD-SiC-beschichteten Zylindersuszeptoren in China. Unser CVD-SiC-beschichteter Zylindersuszeptor spielt mit seinen hervorragenden Produkteigenschaften eine Schlüsselrolle bei der Förderung des epitaktischen Wachstums von Halbleitermaterialien auf Wafern. Willkommen zu Ihrer weiteren Beratung.

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Produktbeschreibung

Der Halbleiter-CVD-SiC-beschichtete Zylindersuszeptor von VeTek ist maßgeschneidert fürepitaktische Prozessein der Halbleiterfertigung und ist eine ideale Wahl zur Verbesserung der Produktqualität und -ausbeute. Diese SiC-Beschichtungsfass-Suszeptorbasis nimmt eine solide Graphitstruktur an und ist präzise mit einer SiC-Schicht beschichtetCVD-ProzessDadurch weist es eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit, Korrosionsbeständigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit auf und kann die raue Umgebung während des Epitaxiewachstums effektiv bewältigen.

Warum sollten Sie sich für einen VeTek-Halbleiter-CVD-SiC-beschichteten Zylindersuszeptor entscheiden?

● Gleichmäßige Erwärmung zur Gewährleistung der Qualität der Epitaxieschicht: Die hervorragende Wärmeleitfähigkeit der SiC-Beschichtung gewährleistet eine gleichmäßige Temperaturverteilung auf der Oberfläche des Wafers, wodurch Defekte effektiv reduziert und die Produktausbeute verbessert werden.

● Verlängern Sie die Lebensdauer der Basis: DerSiC-Beschichtungverfügt über eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit, wodurch die Lebensdauer der Basis effektiv verlängert und die Produktionskosten gesenkt werden können.

● Verbessern Sie die Produktionseffizienz: Das Trommeldesign optimiert den Be- und Entladeprozess der Wafer und verbessert die Produktionseffizienz.

● Anwendbar auf eine Vielzahl von Halbleitermaterialien: Diese Basis kann in großem Umfang beim epitaktischen Wachstum einer Vielzahl von Halbleitermaterialien verwendet werden, zSiCUndGaN.

Vorteile des CVD-SiC-beschichteten Zylindersuszeptors:

●Hervorragende thermische Leistung: Hohe Wärmeleitfähigkeit und thermische Stabilität gewährleisten die Temperaturkontrollgenauigkeit während des epitaktischen Wachstums.

●Korrosionsbeständigkeit: Die SiC-Beschichtung kann der Erosion durch hohe Temperaturen und korrosive Gase wirksam widerstehen und verlängert so die Lebensdauer der Basis.

●Hohe Festigkeit: Die Graphitbasis bietet eine solide Unterstützung, um die Stabilität des Epitaxieprozesses zu gewährleisten.

●Maßgeschneiderter Service: VeTek Semiconductor kann maßgeschneiderte Dienstleistungen entsprechend den Kundenbedürfnissen anbieten, um unterschiedliche Prozessanforderungen zu erfüllen.

REM-DATEN DER KRISTALLSTRUKTUR DES CVD-SIC-BESCHICHTUNGSFILMS:

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum	Typischer Wert
Kristallstruktur	Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte der SiC-Beschichtung	3,21 g/cm³
Härte	2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung	2~10μm
Chemische Reinheit	99,99995 %
Wärmekapazität	640 J·kg^-1·K^-1
Sublimationstemperatur	2700℃
Biegefestigkeit	415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul	430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit	300W·m^-1·K^-1
Wärmeausdehnung (CTE)	4,5×10^-6K^-1

VeTek Semiconductor Geschäfte für CVD-SiC-beschichtete Zylindersuszeptoren:

Graphite epitaxial substrate Semiconductor Equipment Graphite ring assembly Semiconductor process equipment

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