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SiC-beschichteter Pancake-Suszeptor für LPE PE3061S 6'' Wafer
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SiC-beschichteter Pancake-Suszeptor für LPE PE3061S 6'' Wafer

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von SiC-beschichteten Pancake-Suszeptoren für LPE PE3061S 6-Zoll-Wafer in China. Wir sind seit vielen Jahren auf SiC-Beschichtungsmaterialien spezialisiert. Wir bieten einen SiC-beschichteten Pancake-Suszeptor an, der speziell für LPE PE3061S 6-Zoll-Wafer entwickelt wurde . Dieser epitaktische Suszeptor zeichnet sich durch hohe Korrosionsbeständigkeit, gute Wärmeleitungsleistung und gute Gleichmäßigkeit aus. Wir heißen Sie herzlich willkommen, unsere Fabrik in China zu besuchen.

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Produktbeschreibung

Als professioneller Hersteller möchte VeTek Semiconductor Ihnen hochwertige SiC-beschichtete Pancake-Suszeptoren für LPE PE3061S 6''-Wafer anbieten.

Der SiC-beschichtete Pancake-Suszeptor von VeTeK Semiconductor für LPE PE3061S 6-Zoll-Wafer ist eine wichtige Ausrüstung, die in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird.


SiC-beschichteter Pancake-Suszeptor für LPE PE3061S 6-Zoll-Wafer Produktmerkmale:

Hochtemperaturstabilität: SiC weist eine ausgezeichnete Hochtemperaturstabilität auf und behält seine Struktur und Leistung in Hochtemperaturumgebungen bei.

Hervorragende Wärmeleitfähigkeit: SiC verfügt über eine außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit und ermöglicht eine schnelle und gleichmäßige Wärmeübertragung für eine schnelle und gleichmäßige Erwärmung.

Korrosionsbeständigkeit: SiC verfügt über eine ausgezeichnete chemische Stabilität und widersteht Korrosion und Oxidation in verschiedenen Heizumgebungen.

Gleichmäßige Wärmeverteilung: Der SiC-beschichtete Waferträger sorgt für eine gleichmäßige Wärmeverteilung und sorgt so für eine gleichmäßige Temperatur auf der Oberfläche des Wafers während des Erhitzens.

Geeignet für die Halbleiterproduktion: Si-Epitaxie-Waferträger werden häufig in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet, insbesondere für das Si-Epitaxiewachstum und andere Hochtemperatur-Erwärmungsprozesse.


Produktvorteile:

Verbesserte Produktionseffizienz: Der SiC-beschichtete Pancake-Suszeptor ermöglicht eine schnelle und gleichmäßige Erwärmung, verkürzt die Aufheizzeit und erhöht die Produktionseffizienz.

Gesicherte Produktqualität: Eine gleichmäßige Wärmeverteilung sorgt für Konsistenz während der Waferverarbeitung und führt zu einer verbesserten Produktqualität.

Verlängerte Gerätelebensdauer: SiC-Material bietet eine hervorragende Hitzebeständigkeit und chemische Stabilität und trägt so zu einer längeren Lebensdauer des Pancake-Suszeptors bei.

Maßgeschneiderte Lösungen: SiC-beschichteter Suszeptor, Si-Epitaxie-Waferträger können je nach Kundenanforderungen auf verschiedene Größen und Spezifikationen zugeschnitten werden.


SEM data and structure of CVD SIC films


Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum Typischer Wert
Kristallstruktur Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte 3,21 g/cm³
Härte 2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung 2~10μm
Chemische Reinheit 99,99995 %
Wärmekapazität 640 J·kg-1·K-1
Sublimationstemperatur 2700℃
Biegefestigkeit 415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul 430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit 300W·m-1·K-1
Wärmeausdehnung (CTE) 4,5×10-6K-1


VeTek Halbleiterproduktionswerkstatt

VeTek Semiconductor Production Shop


Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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