CVD SiC-Beschichtung Dummy-Wafer

Produktmerkmale des VeTeksemi CVD SiC-Beschichtungs-Dummy-Wafers:

● Gasbeständigkeit bei hohen Temperaturen: SiC-Dummy-Wafer weisen eine hervorragende Beständigkeit gegen Gaserosion bei hohen Temperaturen auf und eignen sich für den Einsatz unter extremen Bedingungen. Diese Widerstandsfähigkeit gewährleistet eine gleichbleibende Leistung selbst in den anspruchsvollsten Umgebungen.

●  Langfristige strukturelle Integrität: CVD-SiC-Beschichtung. Dummy-Wafer sind so konzipiert, dass sie Biegungen und Verformungen über lange Zeiträume standhalten. Ihre Haltbarkeit stellt sicher, dass sie über mehrere Testzyklen hinweg zuverlässig bleiben, wodurch die Notwendigkeit eines häufigen Austauschs verringert wird.

●  Partikelfreie Oberfläche: SiC-Dummy-Wafer haben eine leicht zu reinigende Oberfläche, die Partikelprobleme minimiert, was für die Aufrechterhaltung einer kontaminationsfreien Umgebung von entscheidender Bedeutung ist. Diese Funktion unterstützt qualitativ hochwertige Ergebnisse und reduziert das Fehlerrisiko.

●  Chemische Stabilität: Die chemische Stabilität des SiC-beschichteten Dummy-Wafers ermöglicht es ihm, einer Vielzahl korrosiver Substanzen ohne Beeinträchtigung zu widerstehen. Diese Funktion ist entscheidend für die Aufrechterhaltung der Integrität des Wafers während der chemischen Einwirkung.

Spezifische Anwendungen von CVD-SiC-beschichteten Dummy-Wafern:

●  Vielseitiges Testen und Experimentieren: SiC-beschichtete Dummy-Wafer sind in allen Phasen der Halbleiterproduktion unverzichtbar und bieten ein sicheres und zuverlässiges Mittel zum Testen und Experimentieren. Sie sind zu Beginn des Produktionsprozesses unerlässlich und stellen sicher, dass alle Parameter optimal sind, bevor die wertvollen Produktionswafer verwendet werden.

●  Schutz während der Diffusion: Während des Diffusionsprozesses spielen Dummy-Wafer eine entscheidende Rolle, indem sie Standard-Siliziumwafer abschirmen. Diese Schutzfunktion verhindert Beschädigungen und Verunreinigungen und bewahrt so die Integrität und Qualität des Originalwafers.

●  Messgenauigkeit: Diese Wafer werden sorgfältig zur Messung von Filmdicke, Druckfestigkeit und Reflexionsindex verwendet. Sie helfen auch dabei, das Vorhandensein von Flippern zu erkennen und Musterabmessungen in der Lithographie zu bewerten, was einen wesentlichen Beitrag zur Prozessgenauigkeit und Fehlerreduzierung leistet.

Tatsächlich unterstützt VeTek Semiconductor kundenspezifische Produktdienstleistungen und kann je nach Kundenwunsch eine benutzerdefinierte Serialisierung auf jedem CVD-SiC-Beschichtungs-Dummy-Wafer bereitstellen, was eine individuelle Größe und Dicke ermöglicht. Die individuelle Lasergravur eliminiert außerdem das Risiko einer Kreuzkontamination und gewährleistet so ein hohes Maß an Reinheit und Zuverlässigkeit.

REM-DATEN DES CVD-SIC-BESCHICHTUNGSFILM: