CVD-SiC-Pancake-Suszeptor

Überlegene physikalische Eigenschaften

VeTek Semiconductor Der CVD-SiC-Pancake-Suszeptor wird mit der neuesten CVD-Technologie (Chemical Vapour Deposition) hergestellt, um eine hervorragende Haltbarkeit und extreme Temperaturanpassungsfähigkeit zu gewährleisten. Im Folgenden sind seine wichtigsten physikalischen Eigenschaften aufgeführt:

● Thermische Stabilität: Die hohe thermische Stabilität von CVD-SiC gewährleistet eine stabile Leistung unter Hochtemperaturbedingungen.

● Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient: Das Material hat einen extrem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, wodurch Verformungen und Verformungen durch Temperaturänderungen minimiert werden.

● Chemische Korrosionsbeständigkeit: Dank der hervorragenden chemischen Beständigkeit bleibt die hohe Leistung auch in einer Vielzahl rauer Umgebungen erhalten.

Präzise Unterstützung und optimierte Wärmeübertragung

Die SiC-Beschichtung auf Pancake-Suszeptor-Basis von VeTekSemi ist für die Aufnahme von Halbleiterwafern konzipiert und bietet eine hervorragende Unterstützung bei der epitaktischen Abscheidung. Der SiC-Pancake-Suszeptor wurde mithilfe fortschrittlicher Computersimulationstechnologie entwickelt, um Verformungen und Verformungen unter verschiedenen Temperatur- und Druckbedingungen zu minimieren. Sein typischer Wärmeausdehnungskoeffizient beträgt etwa 4,0 × 10^^-6/°C, was bedeutet, dass seine Dimensionsstabilität in Hochtemperaturumgebungen deutlich besser ist als bei herkömmlichen Materialien, wodurch die Konsistenz der Waferdicke (typischerweise 200 mm bis 300 mm) gewährleistet wird.

Darüber hinaus zeichnet sich der CVD Pancake Susceptor durch eine Wärmeleitfähigkeit von bis zu 120 W/m·K durch eine hervorragende Wärmeübertragung aus. Diese hohe Wärmeleitfähigkeit kann Wärme schnell und effektiv leiten, die Temperaturgleichmäßigkeit im Ofen verbessern, eine gleichmäßige Wärmeverteilung während der epitaktischen Abscheidung gewährleisten und durch ungleichmäßige Hitze verursachte Abscheidungsfehler reduzieren. Eine optimierte Wärmeübertragungsleistung ist entscheidend für die Verbesserung der Abscheidungsqualität, wodurch Prozessschwankungen effektiv reduziert und die Ausbeute verbessert werden können.

Durch diese Design- und Leistungsoptimierungen bietet der CVD-SiC-Pancake-Suszeptor von VeTek Semiconductor eine solide Grundlage für die Halbleiterfertigung, gewährleistet Zuverlässigkeit und Konsistenz unter rauen Verarbeitungsbedingungen und erfüllt die strengen Anforderungen der modernen Halbleiterindustrie an hohe Präzision und Qualität.

CVD-SIC-FILM-KRISTALLSTRUKTUR

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum	Typischer Wert
Kristallstruktur	Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte	3,21 g/cm³
Härte	2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung	2~10μm
Chemische Reinheit	99,99995 %
Wärmekapazität	640 J·kg-1·K-1
Sublimationstemperatur	2700℃
Biegefestigkeit	415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul	430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit	300W·m-1·K-1
Wärmeausdehnung (CTE)	4,5×10-6K-1