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Isostatischer Graphittiegel
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Isostatischer Graphittiegel

Als führender Anbieter von kundenspezifischen Graphittiegeln in China bietet VeTek Semiconductor hauptsächlich isostatische Graphittiegel, SiC-beschichtete Graphittiegelablenker, glaskohlenstoffbeschichtete Graphittiegel usw. an. Unsere Graphittiegel bestehen aus hochreinen Graphitrohstoffen und werden mithilfe von Präzisionstechnologie hergestellt , mit ausgezeichneter Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Wärmeleitfähigkeit. Gerne können Sie uns konsultieren.

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Produktbeschreibung

Der isostatische Graphittiegel von VeTek Semiconductor wird typischerweise aus hochreinen Graphitmaterialien hergestellt. Diese Graphite sind so konstruiert, dass sie eine außergewöhnliche thermische Stabilität, Beständigkeit gegen chemische Korrosion und thermische Ausdehnungseigenschaften aufweisen. Die Zusammensetzung des isostatischen Graphittiegels von VeTek stellt sicher, dass er den extremen Bedingungen standhält, die bei der Hochtemperaturverarbeitung auftreten.


Isostatischer Graphittiegel ist präzisionsgefertigt, um den anspruchsvollen Bedingungen von Halbleiterfertigungsprozessen standzuhalten. Sie verfügen über eine robuste, zylindrische Form mit einer glatten Innenoberfläche, um eine gleichmäßige Wärmeverteilung und Kristallwachstum zu ermöglichen. Das Design des isostatischen Graphittiegels von VeTek für Halbleiter minimiert das Risiko, dass Verunreinigungen das Halbleitermaterial während der Verarbeitung verunreinigen.


Mittlerweile unsereDreiblättriger Graphittiegelbesitzen eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit und ermöglichen eine effiziente Wärmeübertragung während des BetriebsKristallisationsprozess. Diese Eigenschaft sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung im Tiegel, fördert ein gleichmäßiges Kristallwachstum und minimiert thermische Gradienten, die die Produktqualität beeinträchtigen könnten.


Darüber hinaus finden isostatische Graphittiegel weit verbreitete Verwendung in verschiedenen Halbleiterherstellungsprozessen, einschließlich der Züchtung monokristalliner Siliziumbarren mithilfe von Techniken wie Czochralski und Float-Zone-Methoden. DieseKristallwachstumGraphittiegel bieten eine stabile und kontrollierte Umgebung für die präzise Bildung vonHalbleiterkristallwachstum, entscheidend für die Herstellung hochwertiger Materialien für elektronische Geräte.


Physikalische Eigenschaften vonIsostatischer Graphittiegel:


Physikalische Eigenschaften von isostatischem Graphit
Eigentum
Einheit
Typischer Wert
Schüttdichte
g/cm³
1.83
Härte
HSD
58
Elektrischer Widerstand
mΩ.m
10
Biegefestigkeit
MPa
47
Druckfestigkeit
MPa
103
Zugfestigkeit
MPa
31
Elastizitätsmodul
GPa
11.8
Wärmeausdehnung (CTE)
10-6K-1
4.6
Wärmeleitfähigkeit
W·m-1·K-1
130
Durchschnittliche Korngröße
μm
8-10
Porosität
% 10
Aschegehalt
ppm
≤5 (nach der Reinigung)


Geschäfte für isostatische Graphittiegel von VeTek Semiconductor:


Isostatic Graphite Crucible

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