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Ziehen Sie eine Silizium-Einkristall-Vorrichtung
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Ziehen Sie eine Silizium-Einkristall-Vorrichtung

Die Pull-Silicon-Einkristallvorrichtungen von VeTek Semiconductor wurden entwickelt, um die Reinheit der Wafer und die präzise Kontrolle heißer Zonen während der Kristallisation sicherzustellen und nachhaltige und effiziente Lösungen für die Photovoltaikindustrie zu bieten. Wir freuen uns auf eine langfristige Zusammenarbeit.

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Produktbeschreibung

Das Vorteilsprodukt „Pull Silicon Single Crystal Jig“ von VeTek Semiconductor ist für das Ziehen von einkristallinem Silizium nach der CZ-Methode in der PV-Industrie konzipiert. Willkommen bei uns.

Unser umfassendes Sortiment an Geräten und Teilen ist speziell auf die besonderen Anforderungen der Halbleiterindustrie zugeschnitten, darunter:

Tiegel aus gereinigtem Graphit: Gewährleistet Reinheit und Zuverlässigkeit während des Kristallisationsprozesses.

Heizgerät aus gereinigtem Graphit: Bietet effiziente und kontrollierte Erwärmung für optimales Kristallwachstum.

Zylindrischer Wärmeschutz aus Graphit oder C/C-Verbundwerkstoff: Bietet zuverlässige Wärmeisolierung und Schutz.

Flexible Filz- und starre Kohlenstoffisolierung: Kontrolliert Wärmegradienten während des Kristallwachstums.

Gewindebefestigungen aus Carbon/Carbon-Verbundwerkstoff: Bietet sichere und langlebige Befestigungslösungen.

Graphit-Wärmetauscher: Ermöglicht eine effiziente Wärmeübertragung zur Temperaturkontrolle.

Bei der CZochralski-Methode (CZ), bei der Silizium bei hohen Temperaturen kristallisiert wird, gewährleisten unsere Produkte eine präzise Steuerung des Temperaturgradienten im Ofen und ermöglichen so die Herstellung großer zylindrischer Einkristallbarren. Diese Barren werden dann in Silizium-„Wafer“ geschnitten, die in der Mikroelektronik- und Photovoltaikindustrie verwendet werden. Unser Angebot für diesen Prozess umfasst Tiegel aus gereinigtem Graphit, Heizelemente, starre Isolierung für heiße Zonen, Hitzeschilde aus Graphit und C/C-Verbundwerkstoff sowie Ofenisolierung.

Unsere Produkte ermöglichen eine kontrollierte Abkühlung des geschmolzenen Siliziumbades, was zur Bildung von Barren mit breiten kristallinen Zonen führt. Diese Barren werden anschließend in Silizium-Wafer geschnitten, die hauptsächlich in der Photovoltaikindustrie verwendet werden. Unser Angebot für DSS umfasst Heizelemente aus gereinigtem Graphit, Hartkohlenstoffisolierung für heiße Zonen, Verbundbefestigungen, Verbundplatten und Graphitwärmetauscher.

Die Hochtemperatur-Isolierlösungen von Vetek Semiconductor bieten Zuverlässigkeit, Präzision und Effizienz während des gesamten Einkristallzüchtungsprozesses. Mit unseren Produkten erreichen Sie optimale Leistung und halten höchste Qualitätsstandards in der Halbleiterfertigung ein.


Produktionsstätten:


Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:


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