Durchbruch in der Tantalkarbid-Technologie, SiC-Epitaxieverschmutzung um 75 % reduziert?

Kürzlich ist dem deutschen Forschungsinstitut Fraunhofer IISB ein Durchbruch in der Forschung und Entwicklung gelungenTantalkarbid-Beschichtungstechnologie, und entwickelte eine Sprühbeschichtungslösung, die flexibler und umweltfreundlicher als die CVD-Abscheidungslösung ist, und wurde kommerzialisiert.

Und auch in diesem Bereich hat der inländische Vetek-Halbleiter Durchbrüche erzielt. Einzelheiten finden Sie weiter unten.

Fraunhofer IISB:

Entwicklung einer neuen TaC-Beschichtungstechnologie

Am 5. März laut Medien „Verbundhalbleiter"hat das Fraunhofer IISB ein neues entwickeltTantalkarbid (TaC)-Beschichtungstechnologie-Taccotta. Die Technologielizenz wurde an die Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG) übertragen und NKCG hat damit begonnen, TaC-beschichtete Graphitteile für ihre Kunden bereitzustellen.

Die traditionelle Methode zur Herstellung von TaC-Beschichtungen in der Industrie ist die chemische Gasphasenabscheidung (CVD), die mit Nachteilen wie hohen Herstellungskosten und langen Lieferzeiten verbunden ist. Darüber hinaus besteht beim CVD-Verfahren auch die Gefahr einer Rissbildung von TaC beim wiederholten Erhitzen und Abkühlen von Bauteilen. Diese Risse legen den darunter liegenden Graphit frei, der mit der Zeit stark abgebaut wird und ersetzt werden muss.

Die Innovation von Taccotta besteht darin, dass ein wasserbasiertes Sprühbeschichtungsverfahren gefolgt von einer Temperaturbehandlung verwendet wird, um eine TaC-Beschichtung mit hoher mechanischer Stabilität und einstellbarer Dicke auf der Oberfläche zu bildenGraphitsubstrat. Die Dicke der Beschichtung kann von 20 Mikrometer bis 200 Mikrometer angepasst werden, um den unterschiedlichen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden.

Mit der vom Fraunhofer IISB entwickelten TaC-Prozesstechnologie können die erforderlichen Beschichtungseigenschaften, wie z. B. die Dicke, wie unten dargestellt im Bereich von 35 μm bis 110 μm eingestellt werden

Konkret weist die Taccotta-Sprühbeschichtung außerdem folgende wesentliche Merkmale und Vorteile auf:

● Umweltfreundlicher: Mit wasserbasierter Sprühbeschichtung ist diese Methode umweltfreundlicher und einfacher zu industrialisieren;

● Flexibilität: Die Taccotta-Technologie kann sich an Komponenten unterschiedlicher Größe und Geometrie anpassen und ermöglicht so eine teilweise Beschichtung und Komponentenaufarbeitung, was bei CVD nicht möglich ist.

● Reduzierte Tantalverschmutzung: Graphitkomponenten mit Taccotta-Beschichtung werden bei der SiC-Epitaxieherstellung verwendet, und die Tantalverschmutzung wird im Vergleich zu bestehenden Bauteilen um 75 % reduziertCVD-Beschichtungen.

● Verschleißfestigkeit: Kratztests zeigen, dass eine Erhöhung der Schichtdicke die Verschleißfestigkeit deutlich verbessern kann.

Kratztest

Es wird berichtet, dass die Technologie von NKCG, einem Joint Venture, das sich auf die Bereitstellung von Hochleistungsgraphitmaterialien und verwandten Produkten konzentriert, zur Kommerzialisierung gefördert wurde. NKCG wird sich auch in Zukunft noch lange an der Entwicklung der Taccotta-Technologie beteiligen. Das Unternehmen hat damit begonnen, seinen Kunden Graphitkomponenten auf Basis der Taccotta-Technologie anzubieten.

Vetek Semiconductor fördert die Lokalisierung von TaC

Anfang 2023 brachte Vetek Semiconductor eine neue Generation auf den MarktSiC-KristallwachstumWärmefeldmaterial-poröses Tantalcarbid.

Berichten zufolge hat Vetek Semiconductor einen Durchbruch in der Entwicklung erzieltporöses Tantalcarbidmit großer Porosität durch unabhängige Technologieforschung und -entwicklung. Seine Porosität kann bis zu 75 % erreichen und ist damit international führend.