PECVD-Graphitboot

Das PECVD-Graphitboot von Vetek Semiconductor optimiert Beschichtungsprozesse für Solarzellen, indem es die Siliziumwafer effektiv verteilt und eine Glimmentladung für eine gleichmäßige Beschichtungsabscheidung induziert. Mit fortschrittlicher Technologie und Materialauswahl verbessern die PECVD-Graphitboote von Vetek Semiconductor die Qualität von Siliziumwafern und steigern die Effizienz der Solarenergieumwandlung. Bitte zögern Sie nicht, uns anzufragen.

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Produktbeschreibung

VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von PECVD-Graphitbooten in China.

Welche Rolle spielt das PECVD-Graphitboot für Solarzellen (Beschichtung) von VeTek Semiconductor?

Als Träger normaler Siliziumwafer, die im Beschichtungsprozess hergestellt werden, weist das PECVD-Graphitschiffchen viele Schiffchenwafer mit bestimmten Abständen in der Struktur auf, und zwischen den beiden benachbarten Schiffchenwafern besteht ein sehr enger Raum, und die Siliziumwafer werden auf beiden platziert Seiten der leeren Tür.

Da das PECVD-Graphitbootmaterial Graphit über gute elektrische und thermische Leitfähigkeitseigenschaften verfügt, wird in den beiden benachbarten Booten Wechselspannung angelegt, so dass die beiden benachbarten Boote positive und negative Pole bilden, wenn ein bestimmter Druck und Gas in der Kammer herrscht. Wenn zwischen den beiden Booten eine Glimmentladung auftritt, kann die Glimmentladung das SiH4- und NH3-Gas im Raum zersetzen und Si- und N-Ionen bilden. SiNx-Moleküle werden gebildet und auf der Oberfläche des Siliziumwafers abgeschieden, um den Zweck der Beschichtung zu erreichen.

PECVD-Graphitboot als Träger für die Antireflexionsfolie zur Solarzellenbeschichtung. Seine Struktur und Größe wirken sich direkt auf die Umwandlungseffizienz und Produktionseffizienz von Siliziumwafern aus. Nach Jahren der technischen Forschung und Entwicklung verfügt unsere Fabrik nun über fortschrittliche Produktionsausrüstung, ausgereifte Technologiedesigner und erfahrene Produktionspersonal und Materialien können importierte Rohstoffe oder hochwertige inländische Materialien wählen. Derzeit hat das von unserem Unternehmen hergestellte Graphithaus eine einfache Struktur und einen angemessenen Abstand zum Graphitboot, wodurch die Siliziumbeschichtung gleichmäßig wird, die Qualität des Siliziumwafers verbessert wird und die Effizienz der Solarenergieumwandlung hoch ist.

Vetek Semiconductor verfügt über alle Arten von Graphitbooten, die der Markt derzeit benötigt.

Grundlegende physikalische Eigenschaften von isostatischem Graphit:

Physikalische Eigenschaften von isostatischem Graphit
Eigentum	Einheit	Typischer Wert
Schüttdichte	g/cm³	1.83
Härte	HSD	58
Elektrischer widerstand	mΩ.m	10
Biegefestigkeit	MPa	47
Druckfestigkeit	MPa	103
Zugfestigkeit	MPa	31
Elastizitätsmodul	GPa	11.8
Wärmeausdehnung (CTE)	10-6K-1	4.6
Wärmeleitfähigkeit	W·m-1·K-1	130
Durchschnittliche Korngröße	μm	8-10
Porosität	%	10
Aschegehalt	ppm	≤5 (nach der Reinigung)