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VeTek ist ein professioneller Hersteller und Lieferant in China. Unsere Fabrik liefert Kohlefasern, Siliziumkarbidkeramik, Siliziumkarbid-Epitaxie usw. Wenn Sie an unseren Produkten interessiert sind, können Sie sich jetzt erkundigen und wir werden uns umgehend bei Ihnen melden.
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SiC-beschichtete Deckplatte für LPE PE2061S

SiC-beschichtete Deckplatte für LPE PE2061S

VeTek Semiconductor beschäftigt sich seit vielen Jahren intensiv mit SiC-Beschichtungsprodukten und hat sich zu einem führenden Hersteller und Lieferanten von SiC-beschichteten Deckplatten für LPE PE2061S in China entwickelt. Die von uns bereitgestellte SiC-beschichtete Deckplatte für LPE PE2061S ist für LPE-Silizium-Epitaxie-Reaktoren konzipiert und befindet sich oben zusammen mit der Zylinderbasis. Diese mit SiC beschichtete Deckplatte für LPE PE2061S verfügt über hervorragende Eigenschaften wie hohe Reinheit, hervorragende thermische Stabilität und Gleichmäßigkeit, was das Wachstum hochwertiger Epitaxieschichten unterstützt. Egal welches Produkt Sie benötigen, wir freuen uns auf Ihre Anfrage.

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SiC-beschichteter Zylindersuszeptor für LPE PE2061S

SiC-beschichteter Zylindersuszeptor für LPE PE2061S

Als eine der führenden Wafer-Suszeptor-Produktionsstätten in China hat VeTek Semiconductor bei Wafer-Suszeptor-Produkten kontinuierlich Fortschritte gemacht und ist für viele Epitaxie-Wafer-Hersteller zur ersten Wahl geworden. Der von VeTek Semiconductor bereitgestellte SiC-beschichtete Zylindersuszeptor für LPE PE2061S ist für LPE PE2061S 4-Zoll-Wafer konzipiert. Der Suszeptor verfügt über eine haltbare Siliziumkarbidbeschichtung, die die Leistung und Haltbarkeit während des LPE-Prozesses (Flüssigphasenepitaxie) verbessert. Wir freuen uns über Ihre Anfrage und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner zu werden.

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Massiver SiC-Gasduschkopf

Massiver SiC-Gasduschkopf

Der feste SiC-Gasduschkopf spielt eine wichtige Rolle bei der Gleichmäßigkeit des Gases im CVD-Prozess und sorgt so für eine gleichmäßige Erwärmung des Substrats. VeTek Semiconductor engagiert sich seit vielen Jahren intensiv im Bereich der Solid-SiC-Geräte und ist in der Lage, seinen Kunden maßgeschneiderte Solid-SiC-Gasduschköpfe anzubieten. Ganz gleich, welche Anforderungen Sie haben, wir freuen uns auf Ihre Anfrage.

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Chemischer Gasphasenabscheidungsprozess, fester SiC-Kantenring

Chemischer Gasphasenabscheidungsprozess, fester SiC-Kantenring

VeTek Semiconductor engagiert sich seit jeher für die Forschung, Entwicklung und Herstellung fortschrittlicher Halbleitermaterialien. Heute hat VeTek Semiconductor große Fortschritte bei Produkten mit massiven SiC-Kantenringen gemacht und ist in der Lage, seinen Kunden hochgradig maßgeschneiderte massive SiC-Kantenringe anzubieten. Massive SiC-Kantenringe sorgen bei Verwendung mit einem elektrostatischen Spannfutter für eine bessere Ätzgleichmäßigkeit und eine präzise Waferpositionierung und sorgen so für konsistente und zuverlässige Ätzergebnisse. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage und darauf, langfristige Partner füreinander zu werden.

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Fokussierring aus massivem SiC-Ätzverfahren

Fokussierring aus massivem SiC-Ätzverfahren

Der solide SiC-Ätzfokussierungsring ist eine der Kernkomponenten des Wafer-Ätzprozesses, der eine Rolle bei der Fixierung des Wafers, der Fokussierung des Plasmas und der Verbesserung der Gleichmäßigkeit des Wafer-Ätzens spielt. Als führender Hersteller von SiC-Fokussierungsringen in China verfügt VeTek Semiconductor über fortschrittliche Technologie und ausgereifte Prozesse und stellt solide SiC-Ätz-Fokussierungsringe her, die die Bedürfnisse der Endkunden gemäß den Kundenanforderungen vollständig erfüllen. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage und auf eine langfristige Partnerschaft.

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