CVD-SiC-Fokusring

Als Grundlage moderner elektronischer Geräte und Informationstechnologie ist die Halbleitertechnologie zu einem unverzichtbaren Bestandteil der heutigen Gesellschaft geworden. Von Smartphones bis hin zu Computern, Kommunikationsgeräten, medizinischen Geräten und Solarzellen – fast alle modernen Technologien basieren auf der Herstellung und Anwendung von Halbleiterbauelementen.

Da die Anforderungen an die Funktionsintegration und Leistung elektronischer Geräte immer weiter steigen, entwickelt sich auch die Halbleiterprozesstechnologie ständig weiter und verbessert sich. Als zentrales Glied in der Halbleitertechnologie bestimmt der Ätzprozess direkt die Struktur und Eigenschaften des Bauelements.

Der Ätzprozess wird verwendet, um das Material auf der Oberfläche des Halbleiters präzise zu entfernen oder anzupassen, um die gewünschte Struktur und das gewünschte Schaltkreismuster zu bilden. Diese Strukturen bestimmen die Leistung und Funktionalität von Halbleiterbauelementen. Der Ätzprozess ermöglicht eine Präzision im Nanometerbereich, die die Grundlage für die Herstellung hochdichter, leistungsstarker integrierter Schaltkreise (ICs) bildet.

Der CVD-SiC-Fokusring ist eine Kernkomponente beim Trockenätzen und wird hauptsächlich zum Fokussieren von Plasma verwendet, um ihm eine höhere Dichte und Energie auf der Waferoberfläche zu verleihen. Es hat die Funktion, das Gas gleichmäßig zu verteilen. VeTek Semiconductor baut SiC Schicht für Schicht durch den CVD-Prozess auf und erhält schließlich den CVD-SiC-Fokusring. Der vorbereitete CVD-SiC-Fokusring kann die Anforderungen des Ätzprozesses perfekt erfüllen.

Der CVD-SiC-Fokusring weist hervorragende mechanische Eigenschaften, chemische Eigenschaften, Wärmeleitfähigkeit, Hochtemperaturbeständigkeit, Ionenätzbeständigkeit usw. auf.

● Hohe Dichte reduziert das Ätzvolumen

● Hohe Bandlücke und hervorragende Isolierung

● Hohe Wärmeleitfähigkeit, niedriger Ausdehnungskoeffizient und Hitzeschockbeständigkeit

● Hohe Elastizität und gute mechanische Schlagfestigkeit

● Hohe Härte, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit

VeTek Semiconductorverfügt über die führenden CVD-SiC-Fokusring-Verarbeitungskapazitäten in China. Mittlerweile hilft uns das ausgereifte Technik- und Vertriebsteam von VeTek Semiconductor dabei, unseren Kunden die am besten geeigneten Fokusringprodukte anzubieten. Sich für VeTek Semiconductor zu entscheiden bedeutet, mit einem Unternehmen zusammenzuarbeiten, das sich dafür einsetzt, die Grenzen der Technologie zu erweiternCVD-Siliziumkarbid Innovation.

Mit einem starken Fokus auf Qualität, Leistung und Kundenzufriedenheit liefern wir Produkte, die die strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie nicht nur erfüllen, sondern übertreffen. Wir helfen Ihnen dabei, mit unseren fortschrittlichen CVD-Siliziumkarbid-Lösungen mehr Effizienz, Zuverlässigkeit und Erfolg in Ihrem Betrieb zu erzielen.

REM-DATEN DES CVD-SIC-FILM

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung

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