MOCVD-Epitaxialsuszeptor für 4-Zoll-Wafer

VeTek Semiconductor ist ein professioneller, führender chinesischer MOCVD-Epitaxialsuszeptor für 4-Zoll-Waferhersteller mit hoher Qualität und angemessenem Preis. Nehmen Sie gerne Kontakt mit uns auf. Der MOCVD-Epitaxialsuszeptor für 4-Zoll-Wafer ist eine entscheidende Komponente bei der metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung (MOCVD). Prozess, der häufig für das Wachstum hochwertiger epitaktischer Dünnfilme verwendet wird, darunter Galliumnitrid (GaN), Aluminiumnitrid (AlN) und Siliziumkarbid (SiC). Der Suszeptor dient als Plattform zum Halten des Substrats während des epitaktischen Wachstumsprozesses und spielt eine entscheidende Rolle bei der Gewährleistung einer gleichmäßigen Temperaturverteilung, einer effizienten Wärmeübertragung und optimaler Wachstumsbedingungen.

Der MOCVD-Epitaxialsuszeptor für 4-Zoll-Wafer besteht typischerweise aus hochreinem Graphit, Siliziumkarbid oder anderen Materialien mit ausgezeichneter Wärmeleitfähigkeit, chemischer Inertheit und Beständigkeit gegen Thermoschocks.

Anwendungen:

Epitaktische MOCVD-Suszeptoren finden in verschiedenen Branchen Anwendung, darunter:

Leistungselektronik: Wachstum von GaN-basierten High-Electron-Mobility-Transistoren (HEMTs) für Hochleistungs- und Hochfrequenzanwendungen.

Optoelektronik: Wachstum von GaN-basierten Leuchtdioden (LEDs) und Laserdioden für effiziente Beleuchtungs- und Anzeigetechnologien.

Sensoren: Wachstum von AlN-basierten piezoelektrischen Sensoren zur Druck-, Temperatur- und Schallwellenerkennung.

Hochtemperaturelektronik: Wachstum von SiC-basierten Leistungsgeräten für Hochtemperatur- und Hochleistungsanwendungen.

Produktparameter des MOCVD-Epitaxialsuszeptors für 4-Zoll-Wafer

Hinweis: Vor dem Beschichten führen wir eine erste Reinigung durch, nach dem Beschichten führen wir eine zweite Reinigung durch.

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