MOCVD-LED-Epi-Suszeptor

VeTek Semiconductor'SMOCVD-LED-Epi-Suszeptorist eine Kernkomponente. Im Herstellungsprozess von HalbleiterbauelementenMOCVD-LED-Epi-Suszeptorist nicht nur eine einfache Heizplattform, sondern auch ein Präzisionsprozesswerkzeug, das einen tiefgreifenden Einfluss auf die Qualität, Wachstumsrate, Gleichmäßigkeit und andere Aspekte von Dünnschichtmaterialien hat.

Die spezifischen Verwendungen vonMOCVD-LED-Epi-Suszeptorin der Halbleiterverarbeitung sind wie folgt:

Substraterwärmung und Gleichmäßigkeitskontrolle:

Der MOCVD-Epitaxie-Suszeptor sorgt für eine gleichmäßige Erwärmung, um eine stabile Temperatur des Substrats während des Epitaxiewachstums sicherzustellen. Dies ist wichtig, um qualitativ hochwertige Halbleiterfilme zu erhalten und eine gleichbleibende Dicke und Kristallqualität der Epitaxieschichten auf dem gesamten Substrat sicherzustellen.

Unterstützung für Reaktorkammern für chemische Gasphasenabscheidung (CVD).:

Als wichtige Komponente im CVD-Reaktor unterstützt Susceptor die Abscheidung metallorganischer Verbindungen auf Substraten. Es hilft, diese Verbindungen präzise in feste Filme umzuwandeln, um die gewünschten Halbleitermaterialien zu bilden.

Förderung der Gasverteilung:

Das Design des Suszeptors kann die Strömungsverteilung der Gase in der Reaktionskammer optimieren und sicherstellen, dass das Reaktionsgas das Substrat gleichmäßig berührt, wodurch die Gleichmäßigkeit und Qualität der Epitaxiefilme verbessert wird.

Sie können sicher sein, dass Sie maßgeschneidert kaufenMOCVD-LED-Epi-SuszeptorWir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit Ihnen. Wenn Sie weitere Informationen wünschen, können Sie sich umgehend an uns wenden und wir werden Ihnen rechtzeitig antworten!

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung:

Produktionshallen:

Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie：