Wie viel wissen Sie über CVD-SiC?

CVD-SiC(Chemical Vapour Deposition Silicon Carbide) ist ein hochreines Siliziumkarbidmaterial, das durch chemische Gasphasenabscheidung hergestellt wird. Es wird hauptsächlich für verschiedene Komponenten und Beschichtungen in Halbleiterverarbeitungsanlagen verwendet.CVD-SiC-Materialverfügt über eine ausgezeichnete thermische Stabilität, hohe Härte, einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten und eine ausgezeichnete chemische Korrosionsbeständigkeit, was es zu einem idealen Material für den Einsatz unter extremen Prozessbedingungen macht.

CVD-SiC-Material wird häufig in Komponenten verwendet, die hohe Temperaturen, stark korrosive Umgebungen und hohe mechanische Belastungen im Halbleiterherstellungsprozess erfordern.hauptsächlich einschließlich der folgenden Produkte:

CVD-SiC-Beschichtung:

Es wird als Schutzschicht für Halbleiterverarbeitungsgeräte verwendet, um zu verhindern, dass das Substrat durch hohe Temperaturen, chemische Korrosion und mechanischen Verschleiß beschädigt wird.

SiC-Wafer-Boot:

Es wird zum Tragen und Transportieren von Wafern in Hochtemperaturprozessen (z. B. Diffusion und epitaktisches Wachstum) verwendet, um die Stabilität der Wafer und die Gleichmäßigkeit der Prozesse sicherzustellen.

SiC-Prozessrohr:

SiC-Prozessrohre werden hauptsächlich in Diffusionsöfen und Oxidationsöfen verwendet, um eine kontrollierte Reaktionsumgebung für Siliziumwafer bereitzustellen und so eine präzise Materialabscheidung und eine gleichmäßige Dotierungsverteilung sicherzustellen.

SiC-Cantilever-Paddel:

SiC-Cantilever-Paddel wird hauptsächlich zum Tragen oder Stützen von Siliziumwafern in Diffusionsöfen und Oxidationsöfen verwendet und spielt dabei eine tragende Rolle. Insbesondere bei Hochtemperaturprozessen wie Diffusion, Oxidation, Glühen usw. sorgt es für die Stabilität und gleichmäßige Behandlung von Siliziumwafern in extremen Umgebungen.

CVD-SiC-Duschkopf:

Es wird als Gasverteilungskomponente in Plasmaätzgeräten verwendet und weist eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit und thermische Stabilität auf, um eine gleichmäßige Gasverteilung und Ätzwirkung zu gewährleisten.

SiC-beschichtete Decke:

Komponenten in der Reaktionskammer des Geräts dienen dazu, das Gerät vor Schäden durch hohe Temperaturen und korrosive Gase zu schützen und die Lebensdauer des Geräts zu verlängern.

Silizium-Epitaxie-Suszeptoren:

Waferträger, die in Silizium-Epitaxie-Wachstumsprozessen verwendet werden, um eine gleichmäßige Erwärmung und Abscheidungsqualität der Wafer sicherzustellen.

Chemisch aus der Dampfphase abgeschiedenes Siliziumkarbid (CVD-SiC) hat ein breites Anwendungsspektrum in der Halbleiterverarbeitung und wird hauptsächlich zur Herstellung von Geräten und Komponenten verwendet, die gegen hohe Temperaturen, Korrosion und hohe Härte beständig sind.Seine Kernaufgabe spiegelt sich in den folgenden Aspekten wider:

Schutzbeschichtungen in Hochtemperaturumgebungen:

Funktion: CVD-SiC wird häufig für Oberflächenbeschichtungen von Schlüsselkomponenten in Halbleitergeräten (wie Suzeptoren, Reaktionskammerauskleidungen usw.) verwendet. Diese Komponenten müssen in Hochtemperaturumgebungen funktionieren, und CVD-SiC-Beschichtungen können eine hervorragende thermische Stabilität bieten, um das Substrat vor Schäden durch hohe Temperaturen zu schützen.

Vorteile: Der hohe Schmelzpunkt und die hervorragende Wärmeleitfähigkeit von CVD-SiC sorgen dafür, dass die Komponenten unter Hochtemperaturbedingungen lange Zeit stabil arbeiten können, was die Lebensdauer der Ausrüstung verlängert.

Korrosionsschutzanwendungen:

Funktion: Im Halbleiterherstellungsprozess kann die CVD-SiC-Beschichtung der Erosion korrosiver Gase und Chemikalien wirksam widerstehen und die Integrität von Geräten und Geräten schützen. Dies ist besonders wichtig beim Umgang mit stark korrosiven Gasen wie Fluoriden und Chloriden.

Vorteile: Durch das Aufbringen einer CVD-SiC-Beschichtung auf der Oberfläche des Bauteils können durch Korrosion verursachte Geräteschäden und Wartungskosten erheblich reduziert und die Produktionseffizienz verbessert werden.

Hochfeste und verschleißfeste Anwendungen:

Funktion: CVD-SiC-Material ist für seine hohe Härte und hohe mechanische Festigkeit bekannt. Es wird häufig in Halbleiterkomponenten eingesetzt, die Verschleißfestigkeit und hohe Präzision erfordern, wie z. B. Gleitringdichtungen, tragende Komponenten usw. Diese Komponenten sind im Betrieb starken mechanischen Belastungen und Reibungen ausgesetzt. CVD-SiC kann diesen Belastungen wirksam widerstehen und eine lange Lebensdauer und stabile Leistung des Geräts gewährleisten.

Vorteile: Bauteile aus CVD-SiC halten nicht nur mechanischen Belastungen in extremen Umgebungen stand, sondern behalten auch nach längerem Gebrauch ihre Dimensionsstabilität und Oberflächengüte bei.

Gleichzeitig spielt CVD-SiC eine entscheidende Rolle dabeiLED-Epitaxiewachstum, Leistungshalbleiter und andere Bereiche. Im Halbleiterherstellungsprozess werden üblicherweise CVD-SiC-Substrate verwendetEPI-SUSZEPTOREN. Ihre hervorragende Wärmeleitfähigkeit und chemische Stabilität verleihen den gewachsenen Epitaxieschichten eine höhere Qualität und Konsistenz. Darüber hinaus wird CVD-SiC auch häufig verwendetPSS-Ätzträger, RTP-Waferträger, ICP-Ätzträgerusw., die beim Ätzen von Halbleitern eine stabile und zuverlässige Unterstützung bieten, um die Geräteleistung sicherzustellen.

VeTek Semiconductor Technology Co., LTD ist ein führender Anbieter von fortschrittlichen Beschichtungsmaterialien für die Halbleiterindustrie. Unser Unternehmen konzentriert sich auf die Entwicklung modernster Lösungen für die Branche.

Zu unserem Hauptproduktangebot gehören CVD-Beschichtungen aus Siliziumkarbid (SiC), Tantalkarbid (TaC)-Beschichtungen, SiC-Massen, SiC-Pulver und hochreine SiC-Materialien, SiC-beschichteter Graphitsuszeptor, Vorwärmung, TaC-beschichteter Umleitungsring, Halbmond, Schneidteile usw ., die Reinheit liegt unter 5 ppm, Schneidringe können Kundenanforderungen erfüllen.

VeTek Semiconductor konzentriert sich auf die Entwicklung modernster Technologie und Produktentwicklungslösungen für die Halbleiterindustrie.Wir hoffen aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.