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Siliziumkarbid-Nanomaterialien

Siliziumkarbid-Nanomaterialien (SiC) sind Materialien mit mindestens einer Dimension im Nanometerbereich (1–100 nm). Diese Materialien können null-, ein-, zwei- oder dreidimensional sein und vielfältige Anwendungen haben.

Wie viel wissen Sie über CVD-SiC?

CVD SiC ist ein hochreines Siliziumkarbidmaterial, das durch chemische Gasphasenabscheidung hergestellt wird. Es wird hauptsächlich für verschiedene Komponenten und Beschichtungen in Halbleiterverarbeitungsanlagen verwendet. Der folgende Inhalt ist eine Einführung in die Produktklassifizierung und d......

Was ist TaC-Beschichtung?

In diesem Artikel werden hauptsächlich die Produkttypen, Produkteigenschaften und Hauptfunktionen der TaC-Beschichtung in der Halbleiterverarbeitung vorgestellt und eine umfassende Analyse und Interpretation der TaC-Beschichtungsprodukte als Ganzes vorgenommen.

Kennen Sie MOCVD Susceptor?

In diesem Artikel werden hauptsächlich die Produkttypen, Produkteigenschaften und Hauptfunktionen von MOCVD Susceptor in der Halbleiterverarbeitung vorgestellt und eine umfassende Analyse und Interpretation der MOCVD Susceptor-Produkte als Ganzes vorgenommen.

Chipherstellung: Atomic Layer Deposition (ALD)

Da die Gerätegröße in der Halbleiterfertigungsindustrie immer weiter schrumpft, hat die Abscheidungstechnologie von Dünnschichtmaterialien beispiellose Herausforderungen mit sich gebracht. Atomic Layer Deposition (ALD) ist als Dünnschicht-Abscheidungstechnologie, die eine präzise Steuerung auf atoma......

Was ist ein Halbleiterepitaxieprozess?

Es ist ideal, um integrierte Schaltkreise oder Halbleiterbauelemente auf einer perfekt kristallinen Basisschicht aufzubauen. Der Epitaxieprozess (EPI) in der Halbleiterfertigung zielt darauf ab, eine feine einkristalline Schicht, normalerweise etwa 0,5 bis 20 Mikrometer, auf einem einkristallinen Su......

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