Ring vorheizen

VeTek Semiconductor ist ein innovativer Hersteller von SiC-Beschichtungen in China. Der von VeTek Semiconductor bereitgestellte Vorheizring ist für den Epitaxieprozess konzipiert. Die gleichmäßige Siliziumkarbidbeschichtung und das hochwertige Graphitmaterial als Rohstoffe sorgen für eine gleichmäßige Abscheidung und verbessern die Qualität und Gleichmäßigkeit der Epitaxieschicht. Wir freuen uns auf eine langfristige Zusammenarbeit mit Ihnen.

Anfrage absenden

Produktbeschreibung

Der Vorwärmring ist eine Schlüsselausrüstung, die speziell für den Epitaxieprozess (EPI) in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Es wird zum Vorwärmen der Wafer vor dem EPI-Prozess verwendet und sorgt so für Temperaturstabilität und Gleichmäßigkeit während des gesamten epitaktischen Wachstums.

Unser von VeTek Semiconductor hergestellter EPI-Vorheizring bietet mehrere bemerkenswerte Funktionen und Vorteile. Erstens besteht es aus Materialien mit hoher Wärmeleitfähigkeit, die eine schnelle und gleichmäßige Wärmeübertragung auf die Waferoberfläche ermöglichen. Dies verhindert die Bildung von Hotspots und Temperaturgradienten, sorgt für eine gleichmäßige Abscheidung und verbessert die Qualität und Gleichmäßigkeit der Epitaxieschicht.

Darüber hinaus ist unser EPI-Vorheizring mit einem fortschrittlichen Temperaturkontrollsystem ausgestattet, das eine präzise und gleichmäßige Steuerung der Vorheiztemperatur ermöglicht. Dieses Maß an Kontrolle verbessert die Genauigkeit und Wiederholbarkeit entscheidender Schritte wie Kristallwachstum, Materialabscheidung und Grenzflächenreaktionen während des EPI-Prozesses.

Haltbarkeit und Zuverlässigkeit sind wesentliche Aspekte unseres Produktdesigns. Der EPI-Vorheizring ist so konstruiert, dass er hohen Temperaturen und Betriebsdrücken standhält und Stabilität und Leistung über längere Zeiträume aufrechterhält. Dieser Designansatz reduziert die Wartungs- und Austauschkosten und gewährleistet langfristige Zuverlässigkeit und Betriebseffizienz.

Installation und Betrieb des EPI-Vorheizrings sind unkompliziert, da er mit gängigen EPI-Geräten kompatibel ist. Es verfügt über einen benutzerfreundlichen Wafer-Platzierungs- und Entnahmemechanismus, der den Komfort und die Betriebseffizienz erhöht.

Bei VeTek Semiconductor bieten wir auch Anpassungsdienste an, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen. Dazu gehört die Anpassung der Größe, Form und des Temperaturbereichs des EPI-Vorheizrings an die individuellen Produktionsanforderungen.

Für Forscher und Hersteller, die sich mit epitaktischem Wachstum und der Produktion von Halbleiterbauelementen befassen, bietet der EPI Pre Heat Ring von VeTek Semiconductor außergewöhnliche Leistung und zuverlässige Unterstützung. Es dient als entscheidendes Werkzeug, um ein qualitativ hochwertiges epitaktisches Wachstum zu erreichen und effiziente Herstellungsprozesse für Halbleiterbauelemente zu ermöglichen.

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum	Typischer Wert
Kristallstruktur	Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte	3,21 g/cm³
Härte	2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung	2~10μm
Chemische Reinheit	99,99995 %
Wärmekapazität	640 J·kg-1·K-1
Sublimationstemperatur	2700℃
Biegefestigkeit	415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul	430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit	300W·m-1·K-1
Wärmeausdehnung (CTE)	4,5×10-6K-1