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SiC-Prozessrohr

VeTek Semiconductor bietet leistungsstarke SiC-Prozessrohre für die Halbleiterfertigung. Unsere SiC-Prozessrohre zeichnen sich durch Oxidations- und Diffusionsprozesse aus. Mit höchster Qualität und Handwerkskunst bieten diese Rohre Hochtemperaturstabilität und Wärmeleitfähigkeit für eine effiziente Halbleiterverarbeitung. Wir bieten wettbewerbsfähige Preise und möchten Ihr langfristiger Partner in China sein.

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SiC-Cantilever-Paddel

Das SiC Cantilever Paddle von VeTek Semiconductor ist ein sehr leistungsstarkes Produkt. Unser SiC-Cantilever-Paddel wird normalerweise in Wärmebehandlungsöfen zur Handhabung und Unterstützung von Siliziumwafern, zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und anderen Verarbeitungsprozessen in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet. Die hohe Temperaturstabilität und die hohe Wärmeleitfähigkeit des SiC-Materials gewährleisten eine hohe Effizienz und Zuverlässigkeit im Halbleiterverarbeitungsprozess. Wir sind bestrebt, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Suszeptor mit SiC-Beschichtung

Vetek Semiconductor konzentriert sich auf die Forschung und Entwicklung sowie die Industrialisierung von CVD-SiC-Beschichtungen und CVD-TaC-Beschichtungen. Am Beispiel des SiC-Beschichtungssuszeptors wird das Produkt mit hoher Präzision, dichter CVD-SIC-Beschichtung, hoher Temperaturbeständigkeit und starker Korrosionsbeständigkeit hochverarbeitet. Eine Anfrage an uns ist willkommen.

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CVD-SiC-Block für das SiC-Kristallwachstum

VeTek Semiconductor konzentriert sich auf die Forschung, Entwicklung und Industrialisierung von CVD-SiC-Massenquellen, CVD-SiC-Beschichtungen und CVD-TaC-Beschichtungen. Am Beispiel des CVD-SiC-Blocks für das SiC-Kristallwachstum ist die Produktverarbeitungstechnologie fortschrittlich, die Wachstumsrate ist schnell, die hohe Temperaturbeständigkeit und die Korrosionsbeständigkeit sind stark. Gerne können Sie sich erkundigen.

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Neue Technologie zur SiC-Kristallzüchtung

Das durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) hergestellte hochreine Siliziumkarbid (SiC) von Vetek Semiconductor kann als Ausgangsmaterial für die Züchtung von Siliziumkarbidkristallen durch physikalischen Dampftransport (PVT) verwendet werden. Bei der SiC Crystal Growth New Technology wird das Ausgangsmaterial in einen Tiegel geladen und auf einen Impfkristall sublimiert. Verwenden Sie die ausrangierten CVD-SiC-Blöcke, um das Material als Quelle für die Züchtung von SiC-Kristallen zu recyceln. Willkommen bei einer Partnerschaft mit uns.

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CVD-SiC-Duschkopf

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von CVD-SiC-Duschköpfen in China. Wir sind seit vielen Jahren auf SiC-Material spezialisiert. CVD-SiC-Duschköpfe werden aufgrund ihrer hervorragenden thermochemischen Stabilität, hohen mechanischen Festigkeit und Beständigkeit als Material für den Fokussierring ausgewählt Plasmaerosion. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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