SiC-Cantilever-Paddel

Das SiC Cantilever Paddle von VeTek Semiconductor ist ein sehr leistungsstarkes Produkt. Unser SiC-Cantilever-Paddel wird normalerweise in Wärmebehandlungsöfen zur Handhabung und Unterstützung von Siliziumwafern, zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und anderen Verarbeitungsprozessen in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet. Die hohe Temperaturstabilität und die hohe Wärmeleitfähigkeit des SiC-Materials gewährleisten eine hohe Effizienz und Zuverlässigkeit im Halbleiterverarbeitungsprozess. Wir sind bestrebt, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Sie sind herzlich eingeladen, in unsere Fabrik Vetek Semiconductor zu kommen, um die neuesten, preisgünstigsten und qualitativ hochwertigsten SiC-Cantilever-Paddel zu kaufen. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit Ihnen.

Merkmale des SiC-Cantilever-Paddels von VeTek Semiconductor:

Hohe Temperaturstabilität: Kann seine Form und Struktur bei hohen Temperaturen beibehalten und ist für Hochtemperaturverarbeitungsprozesse geeignet.

Korrosionsbeständigkeit: Hervorragende Korrosionsbeständigkeit gegenüber einer Vielzahl von Chemikalien und Gasen.

Hohe Festigkeit und Steifigkeit: Bietet zuverlässigen Halt, um Verformungen und Beschädigungen zu verhindern.

Vorteile des SiC-Cantilever-Paddels von VeTek Semiconductor:

Hohe Präzision: Hohe Verarbeitungsgenauigkeit gewährleistet einen stabilen Betrieb in automatisierten Anlagen.

Geringe Kontamination: Hochreines SiC-Material reduziert das Kontaminationsrisiko, was besonders für hochreine Fertigungsumgebungen wichtig ist.

Hohe mechanische Eigenschaften: Hält rauen Arbeitsumgebungen mit hohen Temperaturen und hohem Druck stand.

Spezifische Anwendungen des SiC Cantilever Paddle und sein Anwendungsprinzip

Handhabung von Siliziumwafern in der Halbleiterfertigung:

SiC Cantilever Paddle wird hauptsächlich zur Handhabung und Unterstützung von Siliziumwafern während der Halbleiterherstellung verwendet. Zu diesen Prozessen gehören in der Regel Reinigen, Ätzen, Beschichten und Wärmebehandlung. Anwendungsprinzip:

Handhabung von Siliziumwafern: Das SiC Cantilever Paddle dient zum sicheren Festklemmen und Bewegen von Siliziumwafern. Bei Hochtemperatur- und chemischen Behandlungsprozessen sorgt die hohe Härte und Festigkeit des SiC-Materials dafür, dass der Siliziumwafer nicht beschädigt oder verformt wird.

Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD):

Beim CVD-Verfahren werden SiC-Cantilever-Paddel zum Transport von Siliziumwafern verwendet, sodass auf ihren Oberflächen dünne Filme abgeschieden werden können. Anwendungsprinzip:

Beim CVD-Prozess wird das SiC-Cantilever-Paddel verwendet, um den Siliziumwafer in der Reaktionskammer zu fixieren. Der gasförmige Vorläufer zersetzt sich bei hoher Temperatur und bildet einen dünnen Film auf der Oberfläche des Siliziumwafers. Die chemische Korrosionsbeständigkeit des SiC-Materials gewährleistet einen stabilen Betrieb bei hohen Temperaturen und in chemischen Umgebungen.

Produktparameter des SiC Cantilever Paddle

Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid
Eigentum	Typischer Wert
Arbeitstemperatur (°C)	1600°C (mit Sauerstoff), 1700°C (reduzierende Umgebung)
SiC-Gehalt	> 99,96 %
Kostenlose Si-Inhalte	< 0,1 %
Schüttdichte	2.60-2.70 g/cm3
Scheinbare Porosität	< 16 %
Druckfestigkeit	> 600 MPa
Kaltbiegefestigkeit	80-90 MPa (20°C)
Warmbiegefestigkeit	90–100 MPa (1400 °C)
Wärmeausdehnung bei 1500 °C	4,70 · 10-6/°C
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 °C	23 W/m·K
Elastizitätsmodul	240 GPa
Wärmeschockbeständigkeit	Extrem gut