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Suszeptor mit SiC-Beschichtung
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Suszeptor mit SiC-Beschichtung

Vetek Semiconductor konzentriert sich auf die Forschung und Entwicklung sowie die Industrialisierung von CVD-SiC-Beschichtungen und CVD-TaC-Beschichtungen. Am Beispiel des SiC-Beschichtungssuszeptors wird das Produkt mit hoher Präzision, dichter CVD-SIC-Beschichtung, hoher Temperaturbeständigkeit und starker Korrosionsbeständigkeit hochverarbeitet. Eine Anfrage an uns ist willkommen.

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Produktbeschreibung

Sie können sicher sein, SiC-Beschichtungssuszeptoren in unserer Fabrik zu kaufen.

Als Hersteller von CVD-SiC-Beschichtungen möchte VeTek Semiconductor Ihnen SiC-Beschichtungssuszeptoren anbieten, die aus hochreinem Graphit und SiC-Beschichtungssuszeptoren (unter 5 ppm) bestehen. Willkommen bei uns.

Bei Vetek Semiconductor sind wir auf Technologieforschung, Entwicklung und Fertigung spezialisiert und bieten eine Reihe fortschrittlicher Produkte für die Industrie an. Zu unserer Hauptproduktlinie gehören CVD-SiC-Beschichtung + hochreiner Graphit, SiC-Beschichtungssuszeptor, Halbleiterquarz, CVD-TaC-Beschichtung + hochreiner Graphit, starrer Filz und andere Materialien.

Eines unserer Flaggschiffprodukte ist der SiC Coating Susceptor, der mit innovativer Technologie entwickelt wurde, um den strengen Anforderungen der epitaktischen Waferproduktion gerecht zu werden. Epitaktische Wafer müssen eine enge Wellenlängenverteilung und geringe Oberflächendefekte aufweisen, was unseren SiC-Beschichtungssuszeptor zu einer wesentlichen Komponente beim Erreichen dieser entscheidenden Parameter macht.


Vorteile unseres SiC-Beschichtungssuszeptors:

Schutz des Basismaterials: Die CVD-SiC-Beschichtung fungiert während des Epitaxieprozesses als Schutzschicht und schützt das Basismaterial effektiv vor Erosion und Schäden durch die äußere Umgebung. Diese Schutzmaßnahme verlängert die Lebensdauer der Geräte erheblich.

Hervorragende Wärmeleitfähigkeit: Unsere CVD-SiC-Beschichtung verfügt über eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit und überträgt die Wärme effizient vom Grundmaterial auf die Beschichtungsoberfläche. Dies verbessert die Effizienz des Wärmemanagements während der Epitaxie und gewährleistet optimale Betriebstemperaturen für die Ausrüstung.

Verbesserte Filmqualität: Die CVD-SiC-Beschichtung sorgt für eine flache und gleichmäßige Oberfläche und schafft so eine ideale Grundlage für das Filmwachstum. Es reduziert Defekte aufgrund von Gitterfehlanpassungen, verbessert die Kristallinität und Qualität des Epitaxiefilms und verbessert letztendlich seine Leistung und Zuverlässigkeit.

Wählen Sie unseren SiC-Beschichtungssuszeptor für Ihre epitaktischen Waferproduktionsanforderungen und profitieren Sie von verbessertem Schutz, überlegener Wärmeleitfähigkeit und verbesserter Filmqualität. Vertrauen Sie auf die innovativen Lösungen von VeTek Semiconductor, um Ihren Erfolg in der Halbleiterindustrie voranzutreiben.


Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum Typischer Wert
Kristallstruktur Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte 3,21 g/cm³
Härte 2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung 2~10μm
Chemische Reinheit 99,99995 %
Wärmekapazität 640 J·kg-1·K-1
Sublimationstemperatur 2700℃
Biegefestigkeit 415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul 430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit 300W·m-1·K-1
Wärmeausdehnung (CTE) 4,5×10-6K-1


Produktionsstätten:


Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:


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