SiC-beschichteter Stützring

VeTek Semiconductor, ein führender Hersteller und Lieferant mit Sitz in China, ist auf die Herstellung einer Reihe von Produkten spezialisiert, darunterSiC-beschichtete Stützringe, CVD-Siliziumkarbidbeschichtungen, Tantalkarbidbeschichtungen, SiC-Massen, SiC-Pulver und hochreine SiC-Materialien. Unser Engagement liegt in der Bereitstellung umfassender technischer Unterstützung und optimaler Produktlösungen, die auf den Halbleitersektor zugeschnitten sind. Für weitere Informationen und Unterstützung können Sie sich gerne an uns wenden.

VeTek Semiconductor'SSiC-beschichtete Stützringesind eine neue Generation hochtemperaturbeständiger Materialien. Als korrosionsbeständige Beschichtungen, oxidationsbeständige Beschichtungen und verschleißfeste Beschichtungen können sie in Umgebungen über 1650 °C eingesetzt werden und werden häufig in der Halbleiterbranche eingesetzt.

Die hochwertigen Eigenschaften vonSiC-beschichtete Stützringespielen eine sehr wichtige Rolle beim epitaktischen Wachstum von Halbleiterbauelementen der dritten Generation.

Aufrechterhaltung der Temperaturgleichmäßigkeit: SiC-beschichtete Stützringe haben eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit und können während des epitaktischen Wachstums für eine gleichmäßige Temperaturverteilung sorgen. Dies trägt dazu bei, thermische Gradienten und Spannungen auf der Waferoberfläche zu reduzieren und dadurch die Qualität der Epitaxieschicht zu verbessern.

Extreme chemische Stabilität: Während des epitaktischen WachstumsprozessesSiC-beschichtete Stützringesind in der Lage, chemischen Angriffen durch die Reaktionsgase zu widerstehen, was die Lebensdauer der Stützringe verlängert und die Integrität des Prozesses aufrechterhält. Diese chemische Stabilität trägt dazu bei, das Kontaminationsrisiko zu verringern und die Reinheit und Leistung von Halbleiterbauelementen zu verbessern.

Präzise Positionierung: SiC-beschichtete Stützringe sind in der Lage, die präzise Positionierung des Wafers aufrechtzuerhalten, was für eine gleichmäßige Schichtabscheidung von entscheidender Bedeutung ist. Diese präzise Positionierung trägt dazu bei, die Konsistenz der Dicke und Qualität der Epitaxieschicht sicherzustellen.

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung:

VeTek Halbleiterproduktionswerkstatt:

Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie: