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China SiC-Epitaxieprozess Hersteller, Lieferant, Fabrik

Die einzigartigen Karbidbeschichtungen von VeTek Semiconductor bieten hervorragenden Schutz für Graphitteile im SiC-Epitaxieprozess für die Verarbeitung anspruchsvoller Halbleiter- und Verbundhalbleitermaterialien. Das Ergebnis ist eine längere Lebensdauer der Graphitkomponenten, die Erhaltung der Reaktionsstöchiometrie, die Hemmung der Verunreinigungsmigration zu Epitaxie- und Kristallwachstumsanwendungen, was zu einer höheren Ausbeute und Qualität führt.

Unsere Tantalcarbid (TaC)-Beschichtungen schützen kritische Ofen- und Reaktorkomponenten bei hohen Temperaturen (bis zu 2200 °C) vor heißem Ammoniak, Wasserstoff, Siliziumdämpfen und geschmolzenen Metallen. VeTek Semiconductor verfügt über eine breite Palette an Graphitverarbeitungs- und Messmöglichkeiten, um Ihre individuellen Anforderungen zu erfüllen. Daher können wir eine kostenpflichtige Beschichtung oder einen Komplettservice anbieten, wobei unser Team aus erfahrenen Ingenieuren bereit ist, die richtige Lösung für Sie und Ihre spezifische Anwendung zu entwickeln .

Verbundhalbleiterkristalle

VeTek Semiconductor kann spezielle TaC-Beschichtungen für verschiedene Komponenten und Träger bereitstellen. Durch den branchenführenden Beschichtungsprozess von VeTek Semiconductor kann die TaC-Beschichtung eine hohe Reinheit, hohe Temperaturstabilität und hohe chemische Beständigkeit erreichen, wodurch die Produktqualität der kristallinen TaC/GaN- und EPl-Schichten verbessert und die Lebensdauer kritischer Reaktorkomponenten verlängert wird.

Wärmeisolatoren

SiC-, GaN- und AlN-Kristallwachstumskomponenten, einschließlich Tiegel, Keimhalter, Deflektoren und Filter. Industrielle Baugruppen, einschließlich Widerstandsheizelemente, Düsen, Abschirmringe und Lötvorrichtungen, GaN- und SiC-Epitaxie-CVD-Reaktorkomponenten, einschließlich Waferträger, Satellitenschalen, Duschköpfe, Kappen und Sockel, MOCVD-Komponenten.


Zweck:

LED-Waferträger (Leuchtdiode).

ALD-Empfänger (Halbleiter).

EPI-Rezeptor (SiC-Epitaxieprozess)


Vergleich von SiC-Beschichtung und TaC-Beschichtung:

SiC TaC
Haupteigenschaften Ultrahohe Reinheit, ausgezeichnete Plasmabeständigkeit Hervorragende Hochtemperaturstabilität (Hochtemperatur-Prozesskonformität)
Reinheit >99,9999 % >99,9999 %
Dichte (g/cm 3) 3.21 15
Härte (kg/mm ​​2) 2900-3300 6.7-7.2
Spezifischer Widerstand [Ωcm] 0,1-15.000 <1
Wärmeleitfähigkeit (W/m-K) 200-360 22
Wärmeausdehnungskoeffizient (10-6/℃) 4,5-5 6.3
Anwendung Halbleiterausrüstung Keramikvorrichtung (Fokusring, Duschkopf, Dummy-Wafer) SiC-Einkristallwachstum, Epi, UV-LED-Geräteteile


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TaC-Beschichtungsheizung

TaC-Beschichtungsheizung

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von TaC-Beschichtungsheizungen in China. Dieses Produkt hat einen extrem hohen Schmelzpunkt (ca. 3880°C). Der hohe Schmelzpunkt des TaC Coating Heater ermöglicht den Betrieb bei extrem hohen Temperaturen, insbesondere beim Wachstum von Galliumnitrid (GaN)-Epitaxieschichten im metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidungsprozess (MOCVD). VeTek Semiconductor ist bestrebt, fortschrittliche Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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TaC-beschichtetes Spannfutter

TaC-beschichtetes Spannfutter

Als professioneller Hersteller und Lieferant von TaC-beschichteten Spannfuttern in China ist das TaC-beschichtete Spannfutter von VeTek Semiconductor speziell für Halbleiteröfen konzipiert. Mit seiner hohen Temperaturbeständigkeit, chemischen Inertheit und hervorragenden Leistung bietet die innovative Technologie von Vetek Semiconductor eine zuverlässige Lösung für die Halbleiterfertigungsindustrie, um qualitativ hochwertige Produktionsstandards sicherzustellen. Wir glauben, dass unsere Produkte Ihnen fortschrittliche Technologie und hochwertige Produktlösungen bieten können.

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TaC-Beschichtungsrohr

TaC-Beschichtungsrohr

Als professioneller Hersteller und Lieferant von TaC-Beschichtungsrohren in China ist das TaC-Beschichtungsrohr von VeTek Semiconductor eine Schlüsselkomponente für das erfolgreiche Wachstum von Siliziumkarbid-Einkristallen. Mit seiner hohen Temperaturbeständigkeit, chemischen Inertheit und hervorragenden Leistung gewährleistet es die Herstellung hochwertiger Kristalle mit konsistenten Ergebnissen. Vertrauen Sie auf unsere innovativen Lösungen, um Ihren SiC-Kristallwachstumsprozess mit der PVT-Methode zu verbessern und hervorragende Ergebnisse zu erzielen. Willkommen bei uns.

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CVD-TAC-Beschichtung

CVD-TAC-Beschichtung

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller, Innovator und Marktführer für CVD-TAC-Beschichtung in China. Seit vielen Jahren konzentrieren wir uns auf verschiedene CVD-TAC-Beschichtungsprodukte wie CVD-TaC-Beschichtungsabdeckung, CVD-TaC-Beschichtungsring, CVD-TaC-Beschichtungsträger usw. VeTek Semiconductor unterstützt maßgeschneiderte Produktdienstleistungen und zufriedenstellende Produktpreise und freut sich auf Ihre weitere Zusammenarbeit Beratung.

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Ersatzteil für TaC-Beschichtung

Ersatzteil für TaC-Beschichtung

VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller von TaC-Beschichtungsplatten und anderen TaC-Beschichtungsersatzteilen in China. Die TaC-Beschichtung wird derzeit hauptsächlich in Prozessen wie dem Wachstum von Siliziumkarbid-Einkristallen (PVT-Methode), epitaktischen Scheiben (einschließlich Siliziumkarbid-Epitaxie, LED-Epitaxie) usw. verwendet. Kombiniert mit der guten Langzeitstabilität der TaC-Beschichtungsplatte, VeTek Semiconductor TaC Coating Plate ist zum Maßstab für TaC Coating-Ersatzteile geworden. Wir freuen uns darauf, dass Sie unser langfristiger Partner werden.

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GaN auf SiC-Epi-Akzeptor

GaN auf SiC-Epi-Akzeptor

VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller von GaN-auf-SiC-Epi-Suszeptoren, CVD-SiC-Beschichtungen und CVD-TAC-COATING-Graphitsuszeptoren in China. Unter ihnen spielt der GaN-auf-SiC-Epi-Suszeptor eine entscheidende Rolle bei der Halbleiterverarbeitung. Durch seine hervorragende Wärmeleitfähigkeit, Hochtemperaturverarbeitungsfähigkeit und chemische Stabilität gewährleistet es die hohe Effizienz und Materialqualität des epitaktischen GaN-Wachstumsprozesses. Wir freuen uns sehr auf Ihre weitere Beratung.

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Als professioneller SiC-Epitaxieprozess Hersteller und Lieferant in China verfügen wir über eine eigene Fabrik. Egal, ob Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, um den spezifischen Anforderungen Ihrer Region gerecht zu werden, oder fortschrittliche und langlebige Produkte aus China kaufen möchten, Sie können uns eine Nachricht hinterlassen.
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