Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung

Vetek Semiconductor Siliziumkarbid-Keramikbeschichtungist eine Hochleistungsschutzbeschichtung aus extrem hartem und verschleißfestem Siliziumkarbid (SiC)-Material, die eine hervorragende chemische Korrosionsbeständigkeit und hohe Temperaturstabilität bietet. Diese Eigenschaften sind in der Halbleiterproduktion von entscheidender Bedeutung, daher wird die Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung häufig für Schlüsselkomponenten von Halbleiterfertigungsanlagen verwendet.

Die besondere Rolle, die die Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung von Vetek Semiconductor in der Halbleiterproduktion spielt, istwie folgt:

Verbessern Sie die Haltbarkeit der Ausrüstung: Die Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung bietet mit ihrer extrem hohen Härte und Verschleißfestigkeit einen hervorragenden Oberflächenschutz für Halbleiterfertigungsanlagen. Insbesondere in Hochtemperatur- und stark korrosiven Prozessumgebungen wie der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und dem Plasmaätzen kann eine Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung Schäden an der Geräteoberfläche durch chemische Erosion oder physikalischen Verschleiß wirksam verhindern und so die Lebensdauer erheblich verlängern der Ausrüstung und Reduzierung von Ausfallzeiten, die durch häufigen Austausch und Wartung verursacht werden.

Verbessern Sie die Prozessreinheit: Im Halbleiterherstellungsprozess kann jede kleinste Verunreinigung zu Produktfehlern führen. Die chemische Inertheit der Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung ermöglicht es, unter extremen Bedingungen stabil zu bleiben, das Material daran zu hindern, Partikel oder Verunreinigungen freizusetzen, und die Reinheit der Umgebung während des Prozesses sicherzustellen. Dies ist besonders wichtig für Fertigungsschritte, die eine hohe Präzision und Sauberkeit erfordern, wie z. B. PECVD und Ionenimplantation.

Optimieren Sie das Wärmemanagement: Bei der Hochtemperatur-Halbleiterverarbeitung, wie z. B. Rapid Thermal Processing (RTP) und Oxidationsprozessen, ermöglicht die hohe Wärmeleitfähigkeit der Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung eine gleichmäßige Temperaturverteilung innerhalb der Ausrüstung. Dies trägt dazu bei, die durch Temperaturschwankungen verursachte thermische Belastung und Materialverformung zu reduzieren und dadurch die Genauigkeit und Konsistenz der Produktherstellung zu verbessern.

Unterstützen Sie komplexe Prozessumgebungen: Bei Prozessen, die eine komplexe Atmosphärenkontrolle erfordern, wie z. B. ICP-Ätz- und PSS-Ätzprozesse, gewährleisten die Stabilität und Oxidationsbeständigkeit der Siliziumkarbid-Keramikbeschichtungsheizung die stabile Leistung der Ausrüstung im Langzeitbetrieb und verringern so das Risiko einer Materialverschlechterung der Ausrüstung Schäden aufgrund von Umweltveränderungen.

Vetek Semiconductorkonzentriert sich auf die Herstellung und Lieferung von HochleistungsproduktenSiliziumkarbid-Keramikbeschichtungund engagiert sich für die Bereitstellung fortschrittlicher Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie.Wir hoffen aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.

Grundlegende physikalische Eigenschaften vonSiliziumkarbid-Keramikbeschichtung:

VeTek Semiconductor Siliziumkarbid-Keramikbeschichtungsbetriebe:

Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie: