Hot Zone-Graphitheizgerät

VeTek Semiconductor Hot Zone-Graphitheizer sind für die extremen Bedingungen in Hochtemperaturöfen ausgelegt. Abhängig von den unten aufgeführten spezifischen Produktmerkmalen sind die Heizgeräte in der Lage, den rauen Umgebungen standzuhalten, die üblicherweise bei Hochtemperaturverarbeitungen auftreten.

Gleichmäßige Temperaturverteilung: Der Hot Zone-Graphitheizer ist dank seiner perfekten Kombination aus hochpräziser Materialauswahl und präziser Verarbeitungstechnologie für seine hervorragenden, gleichmäßigen Heizeigenschaften bekannt. Diese Gleichmäßigkeit sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung über die gesamte Heizfläche und reduziert effektiv die ungleichmäßige Waferverarbeitung aufgrund von Temperaturgradienten, wodurch die Produktausbeute und die Leistungskonsistenz der Geräte verbessert werden.

Ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit: Graphitheizer für Hot Zone weisen eine starke Beständigkeit gegenüber verschiedenen korrosiven Gasen und Chemikalien auf, die bei Hochtemperatur-Halbleiterherstellungsprozessen auftreten. Die natürliche Trägheit von Graphitmaterialien ermöglicht es Graphitheizgeräten, in rauen Umgebungen eine langfristige Stabilität aufrechtzuerhalten, wodurch das Kontaminationsrisiko erheblich verringert und die Lebensdauer der Ausrüstung verlängert wird.

Hervorragende Antioxidationsleistung: Im Vergleich zu herkömmlichen Graphitmaterialien weist die Hot Zone-Graphitheizung bei hohen Temperaturen immer noch eine hervorragende Antioxidationsfähigkeit auf. Diese Funktion ist von entscheidender Bedeutung, um eine oxidative Verschlechterung der Heizoberfläche während der Hochtemperaturverarbeitung zu verhindern und die Entstehung von Partikelverunreinigungen in der Verarbeitungskammer zu verhindern und so den kontinuierlichen effizienten Betrieb der Anlage sicherzustellen.

Ultrahohe chemische Reinheit: Nach strenger Verarbeitung hat unser Graphitheizgerät ein extrem hohes Maß an chemischer Reinheit erreicht und verhindert so wirksam das Einbringen schädlicher Verunreinigungen in die Halbleiterverarbeitungsumgebung. Diese Reinheit ist entscheidend für den Schutz der Integrität von Präzisionshalbleitermaterialien und die Herstellung von Geräten, die die erwarteten elektrischen und optischen Eigenschaften erfüllen.

Hohe mechanische Festigkeit und Stabilität: Die Hot Zone-Graphitheizung von VeTekSemi verfügt über eine hervorragende mechanische Festigkeit und Dimensionsstabilität und behält die strukturelle Integrität auch unter Hochtemperatur-Betriebsbedingungen bei. Unabhängig davon, ob sie häufigen thermischen Zyklen oder starker mechanischer Beanspruchung ausgesetzt sind, behalten Graphitheizungen für die Hot Zone ihre Robustheit und bieten eine solide und zuverlässige Unterstützung für raue Umgebungen bei der Halbleiterverarbeitung.

Darüber hinaus bietet VeTeksemi auch eine Vielzahl kundenspezifischer Größen und Konfigurationen von Graphitheizungen an, um den Anforderungen verschiedener Halbleiterfertigungsprozesse gerecht zu werden. wie zum BeispielSic-Keramikbeschichtung aus GraphitHeizung、VEECO MOCVD-Heizungusw.  VeTek Semiconductor ist bestrebt, fortschrittliche und anpassbare Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen. Wir hoffen aufrichtig, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.