Mit Tantalcarbid beschichtete Röhre für das Kristallwachstum

Sie können sicher sein, dass Sie bei VeTek Semiconductor maßgeschneiderte, mit Tantalkarbid beschichtete Rohre für die Kristallzüchtung kaufen. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit Ihnen. Wenn Sie mehr wissen möchten, können Sie uns jetzt kontaktieren, wir werden Ihnen rechtzeitig antworten!

VeTek Semiconductor bietet mit Tantalkarbid beschichtete Rohre für die Kristallzüchtung an, die speziell für die SiC-Kristallzüchtung unter Verwendung der PVT-Methode (Physical Vapour Transport) entwickelt wurden. Die Graphitrohre von VeTek Semiconductor zeichnen sich durch eine hochreine CVD-Tantalkarbidbeschichtung aus, die eine optimale Leistung beim SiC-Kristallwachstum gewährleistet. SiC-Kristalle, sogenannte Halbleiter der dritten Generation, bergen ein enormes Potenzial für verschiedene Anwendungen. Durch den Einsatz unseres mit Tantalkarbid beschichteten Rohrs für das Kristallwachstum können Forscher und Branchenexperten das SiC-Wachstum effektiv optimieren und hochwertige SiC-Kristallkugeln herstellen. Ob Sie in der Forschung oder in der industriellen Produktion tätig sind, unsere Produkte bieten zuverlässige Lösungen für effizientes SiC-Kristallwachstum.

Neben TaC-beschichteten Graphitrohren liefert VeTek Semiconductor auch TaC-beschichtete Ringe, TaC-beschichtete Tiegel, TaC-beschichtetes poröses Graphit, TaC-beschichteter Graphitsuszeptor, TaC-beschichteter Führungsring, TaC-Tantalcarbid-beschichtete Platte, TaC-Beschichtungsring, TaC-beschichtete Graphitabdeckung, TaC-beschichtete Stück für Kristallwachstumsofen wie unten:

PVT-Methode SiC-Kristallwachstum

Produktparameter des mit Tantalkarbid beschichteten Rohrs für das Kristallwachstum

Wafer-Leistung nach Verwendung unserer Komponenten:

VeTek Halbleiterproduktionswerkstatt

Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie: