VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von Tantalcarbid-Beschichtungsabdeckungen in China. Wir konzentrieren uns auf die Bereitstellung hochreiner, hochtemperaturbeständiger Tantalcarbidprodukte. Unsere mit Tantalkarbid beschichteten Abdeckungen zeichnen sich durch hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit aus und können Materialien bei extrem hohen Temperaturen und korrosiven Umgebungen wirksam schützen. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
VeTek Semiconducto ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von Tantalkarbid-Beschichtungsabdeckungen in China. Unsere Tantalcarbid-Beschichtungsabdeckung stellt die neueste Lösung für thermische Anwendungen für Kristallwachstums- und Epitaxieprozesse (EPI) dar. Diese sorgfältig gefertigte, einzigartige Abdeckung ist eine entscheidende Komponente für die Aufrechterhaltung der Kristallbildung und der epitaktischen Filmabscheidung.
Das Kernmaterial der TaC Coated Graphite Cover besteht aus hochwertigem Graphit, der für seine hervorragende Wärmeleitfähigkeit und Stabilität bekannt ist. Die Fähigkeit von Graphit, extremen Temperaturen standzuhalten, macht es zu einem idealen Material für thermische Feldanwendungen und gewährleistet Langlebigkeit und Zuverlässigkeit in anspruchsvollen Umgebungen.
Das einzigartige Merkmal der TaC-beschichteten Graphitabdeckung ist ihre innovative Tantalkarbid-Beschichtung (TaC). Diese fortschrittliche Beschichtung verbessert die Leistung der Abdeckung, indem sie eine robuste Schutzschicht hinzufügt und ihre Beständigkeit gegen Korrosion, Verschleiß und Thermoschock erhöht. Die TaC-Beschichtung erhöht nicht nur die Festigkeit der Abdeckung unter rauen Bedingungen, sondern verbessert auch die Effizienz und verlängert ihre Lebensdauer.
Während des Kristallwachstumsprozesses erleichtert die TaC-beschichtete Graphitabdeckung eine präzise Temperaturkontrolle und verteilt die Wärme gleichmäßig, wodurch eine Umgebung geschaffen wird, die die Bildung hochwertiger Kristalle begünstigt. Darüber hinaus gewährleistet seine Anpassungsfähigkeit während des Epitaxieprozesses eine kontrollierte Abscheidung dünner Filme, was für Anwendungen in der Halbleiter- und Materialwissenschaft von entscheidender Bedeutung ist.
Diese sorgfältig entworfene, mit TaC beschichtete Graphitkappe demonstriert in vollem Umfang die Synergie zwischen den inhärenten Eigenschaften von Graphit und den verbesserten Fähigkeiten, die die TaC-Beschichtung bietet. Ganz gleich, ob sie in Labors, Forschungseinrichtungen oder industriellen Umgebungen eingesetzt werden, die TaC-beschichtete Graphitkappe ist ein Beispiel für Innovation in der Thermotechnologie und bietet eine zuverlässige und langlebige Lösung für Kristallwachstums- und Epitaxieprozesse. VeTek Semiconductor wird sich weiterhin dafür einsetzen, seinen Kunden die fortschrittlichsten Technologielösungen und umfassenden Support zu bieten.
Physikalische Eigenschaften der TaC-Beschichtung | |
Dichte | 14,3 (g/cm³) |
Spezifischer Emissionsgrad | 0.3 |
Wärmeausdehnungskoeffizient | 6,3 10-6/K |
Härte (HK) | 2000 HK |
Widerstand | 1×10-5 Ohm*cm |
Thermische Stabilität | <2500℃ |
Graphitgrößenänderungen | -10~-20um |
Beschichtungsdicke | ≥20um typischer Wert (35um±10um) |