Wafer-Hebestift

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von EPI-Wafer-Lift-Pins in China. Wir sind seit vielen Jahren auf die SiC-Beschichtung von Graphitoberflächen spezialisiert. Wir bieten einen EPI Wafer Lift Pin für den Epi-Prozess an. Mit hoher Qualität und wettbewerbsfähigen Preisen heißen wir Sie herzlich willkommen, unsere Fabrik in China zu besuchen.

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Produktbeschreibung

VeTek Semiconductor bietet SiC-Beschichtung und TaC-Beschichtungsmaterial zu wettbewerbsfähigen Preisen und hoher Qualität. Gerne können Sie uns anfragen.

Der Wafer-Hebestift EPI von VeTek Semiconductor ist ein Schlüsselgerät, das speziell für die Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Es wird zum Heben und Transportieren von Wafern verwendet und gewährleistet deren Sicherheit und Stabilität während der Herstellung. Wir bieten SiC-beschichtete Wafer-Hebestifte, Spitzenstifte und Vorwärmringe für den EPI-Prozess.

Unsere EPI-Wafer-Lift-Pins bieten die folgenden Eigenschaften und Vorteile:

Hohe Genauigkeit und Stabilität: Unsere EPI-Wafer-Hebestifte verwenden fortschrittliche Prozesse und Materialien, um eine hohe Genauigkeit und Stabilität beim Heben und Handhaben von Wafern zu gewährleisten. Es kann Wafer präzise positionieren und fixieren und so Abweichungen und Beschädigungen der Wafer während der Herstellung vermeiden.

Sicherheit und Zuverlässigkeit: Unsere EPI-Wafer-Liftstifte werden aus hochfesten Materialien für hervorragende Haltbarkeit und Zuverlässigkeit hergestellt. Es hält Gewicht und Druck stand und stellt sicher, dass der Wafer während der Handhabung nicht beschädigt wird oder versehentlich herunterfällt.

Automatisierung und Effizienz: Unsere EPI-Wafer-Lift-Pins sind so konzipiert, dass sie autonom arbeiten und sich nahtlos in Halbleiterfertigungsanlagen integrieren lassen. Es kann Wafer schnell und präzise anheben und bewegen, was die Produktionseffizienz erhöht und den Bedarf an manuellen Vorgängen reduziert.

Kompatibilität und Anwendbarkeit: Unsere EPI-Wafer-Hebestifte eignen sich für eine Vielzahl von Größen und Arten von Wafern, einschließlich Wafer mit unterschiedlichen Durchmessern und Materialien. Es kann mit einer Vielzahl von Geräten und Prozessen zur Halbleiterherstellung kompatibel sein und eignet sich für eine Vielzahl von Produktionsumgebungen.

Hohe Qualität und zuverlässiger Support: Wir sind bestrebt, qualitativ hochwertige und zuverlässige Produkte bereitzustellen und unseren Kunden umfassenden Support und Service zu bieten. Unsere Wafer-Liftstifte werden strengen Qualitätskontrollen und Tests unterzogen, um ihre Leistung und Haltbarkeit sicherzustellen.

Ganz gleich, ob Sie in der Waferherstellung, Halbleiterforschung und -entwicklung oder -produktion tätig sind, unsere Wafer-Liftstifte bieten Ihnen eine zuverlässige Lösung. Kontaktieren Sie uns, um mehr über unsere Wafer-Lift-Pin-Produkte zu erfahren und gemeinsam an einer glänzenden Zukunft zu arbeiten!

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum	Typischer Wert
Kristallstruktur	Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte	3,21 g/cm³
Härte	2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung	2~10μm
Chemische Reinheit	99,99995 %
Wärmekapazität	640 J·kg-1·K-1
Sublimationstemperatur	2700℃
Biegefestigkeit	415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul	430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit	300W·m-1·K-1
Wärmeausdehnung (CTE)	4,5×10-6K-1