Waferträger aus hochreinem Siliziumkarbid

Waferträger aus hochreinem Siliziumkarbid von VeTek Semiconductor sind wichtige Komponenten in der Halbleiterverarbeitung, die für die sichere Halterung und den Transport empfindlicher Siliziumwafer konzipiert sind und in allen Phasen der Herstellung eine Schlüsselrolle spielen. Die hochreinen Siliziumkarbid-Waferträger von VeTek Semiconductor wurden sorgfältig entwickelt und hergestellt, um hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. VeTek Semiconductor ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten, und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.

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Produktbeschreibung

VeTek Semiconductor ist ein professioneller, führender Hersteller von hochreinen Siliziumkarbid-Waferträgern in China mit hoher Qualität und angemessenem Preis. Nehmen Sie gerne Kontakt mit uns auf.

Der hochreine Siliziumkarbid-Waferträger von VeTek Semiconductor ist ein Träger, der für mehrere Wafer entwickelt wurde, um die Platzeffizienz innerhalb der Prozesskammer zu maximieren. Diese hochreinen Siliziumkarbid-Waferträger sind typischerweise rechteckig oder zylindrisch, und jeder Träger verfügt über präzisionsgefertigte Schlitze oder Rillen, die voneinander getrennt sind, um einen einzelnen Wafer sicher in einer vertikalen Position zu halten. Hochreine Siliziumkarbid-Waferträger weisen eine ausgezeichnete Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen, korrosiven Chemikalien und mechanischer Beanspruchung auf und eignen sich daher ideal zum Schutz von Wafern vor möglichen Schäden. Sie werden aus hochreinem Siliziumkarbid (SiC) hergestellt, um die Integrität und Sicherheit der Wafer während der Verarbeitung zu gewährleisten.

Hochreine Siliziumkarbid-Waferträger spielen eine entscheidende Rolle in komplexen Prozessen wie Diffusion, RTP und Wärmefeldern und dienen als stabiler Träger für Wafer, um einen nahtlosen Transfer zwischen verschiedenen Geräten und Stufen zu erreichen. Seine vertikale Struktur minimiert den Platzbedarf in der Prozesskammer, optimiert den Produktionsdurchsatz und kann große Wafer-Chargen effizient verarbeiten. Hochreine Siliziumkarbid-Waferträger sind bekannt für ihre hervorragende Beständigkeit gegen hohe Temperaturen, Korrosion und mechanische Festigkeit, um Wafer vor möglichen Schäden zu schützen.

Der hochreine Siliziumkarbid-Waferträger von VeTek Semiconductor besteht aus hochreinem Siliziumkarbid (SiC) und verfügt über eine ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit, chemische Korrosionsbeständigkeit und mechanische Festigkeit, um die Integrität der Wafer in rauen Umgebungen zu schützen. Seine sorgfältig entworfene Struktur und die präzise bearbeiteten Schlitze sorgen dafür, dass die Wafer fest positioniert sind, um den Anforderungen einer hochpräzisen Verarbeitung gerecht zu werden.

Vetek Semiconductor setzt sich dafür ein, Kunden qualitativ hochwertige Produkte und zuverlässige technische Unterstützung zu bieten. Unabhängig davon, ob das Waferwachstum, die Diffusion, die Ablagerung von Dünnfilmen oder andere kritische Prozesse, Vetek Semiconductors hochreine Silizium -Carbid -Wafer -Waferträger eine wichtige Rolle bei der Gewährleistung der Stabilität und Konsistenz des Herstellungsprozesses spielen kann. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

Produktparameter des hochreinen Siliziumkarbid-Waferträgers

Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid
Eigentum	Typischer Wert
Arbeitstemperatur (°C)	1600°C (mit Sauerstoff), 1700°C (reduzierende Umgebung)
SiC-Gehalt	> 99,96 %
Kostenlose Si-Inhalte	< 0,1 %
Schüttdichte	2,60–2,70 g/cm3
Scheinbare Porosität	< 16 %
Druckfestigkeit	> 600 MPa
Kaltbiegefestigkeit	80-90 MPa (20°C)
Warmbiegefestigkeit	90–100 MPa (1400 °C)
Wärmeausdehnung bei 1500 °C	4,70 · 10-6/°C
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 °C	23 W/m·K
Elastizitätsmodul	240 GPa
Wärmeschockbeständigkeit	Extrem gut

VeTek Halbleiterproduktionswerkstatt

Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:

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