Cantilever-Paddel aus Siliziumkarbid

Das Siliziumkarbid-Cantilever-Paddel von VeTek Semiconductor ist eine wichtige Komponente im Halbleiterherstellungsprozess und eignet sich besonders für Diffusionsöfen oder LPCVD-Öfen in Hochtemperaturprozessen wie Diffusion und RTP. Unser Cantilever-Paddel aus Siliziumkarbid wurde sorgfältig entwickelt und hergestellt und verfügt über eine hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit und mechanische Festigkeit. Es kann Wafer unter rauen Prozessbedingungen für verschiedene Hochtemperaturprozesse wie Diffusion und RTP sicher und zuverlässig zum Prozessrohr transportieren. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Produktbeschreibung

Sie können sicher sein, maßgeschneiderte Siliziumkarbid-Cantilever-Paddel von VeTek Semiconducto zu kaufen. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit Ihnen. Wenn Sie mehr wissen möchten, können Sie uns jetzt kontaktieren, wir werden Ihnen rechtzeitig antworten!

Das Siliziumkarbid-Cantilever-Paddel von VeTek Semiconductor besteht aus hochreinem Siliziumkarbid und weist eine ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit und mechanische Festigkeit auf. Es ist eine unverzichtbare Schlüsselkomponente im Halbleiterfertigungsprozess, insbesondere in Diffusions- oder LPCVD-Öfen und RTP-Prozessen. Das präzise Design und die Herstellung des Siliziumkarbid-Cantilever-Paddels gewährleisten die sichere Positionierung und Übertragung von Wafern, um hochpräzise Prozessanforderungen zu erfüllen.

Das Siliziumkarbid-Cantilever-Paddel von VeTek Semiconductor besteht aus Siliziumkarbid als Hauptmaterial. Siliziumkarbid zeichnet sich durch hohe Festigkeit und gute thermische Stabilität aus und kann daher rauen Bedingungen in der Hochtemperatur-Prozessumgebung von Halbleiteröfen standhalten. Einer der Gründe für die Wahl von Siliziumkarbid ist, dass es sich an die Hochtemperaturumgebung in Halbleiteröfen anpassen kann.

Das Design des Siliziumkarbid-Auslegerpaddels ermöglicht es, dass es in das Prozessrohr im Ofen hineinragt und an einem Ende außerhalb des Rohrs fest befestigt wird. Dieses Design stellt sicher, dass der zu verarbeitende Wafer während des Prozesses stabil und gestützt bleibt und minimiert Störungen der thermischen Umgebung im Ofen.

VeTek Semiconductor ist bestrebt, qualitativ hochwertige SiC-Cantilever-Paddelprodukte anzubieten. Unsere Produkte werden sorgfältig entworfen und hergestellt, um den strengen Anforderungen des Halbleiterherstellungsprozesses gerecht zu werden. Die hervorragende Leistung und Zuverlässigkeit des Siliziumkarbid-Cantilever-Paddels machen es zu einer unverzichtbaren Schlüsselkomponente in der Halbleiterindustrie. VeTek Semiconductor ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten, und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

Produktparameter des Siliziumkarbid-Cantilever-Paddels

Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid
Eigentum	Typischer Wert
Arbeitstemperatur (°C)	1600°C (mit Sauerstoff), 1700°C (reduzierende Umgebung)
SiC-Gehalt	> 99,96 %
Kostenlose Si-Inhalte	< 0,1 %
Schüttdichte	2,60–2,70 g/cm3
Scheinbare Porosität	< 16 %
Druckfestigkeit	> 600 MPa
Kaltbiegefestigkeit	80-90 MPa (20°C)
Warmbiegefestigkeit	90–100 MPa (1400 °C)
Wärmeausdehnung bei 1500 °C	4,70 · 10-6/°C
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 °C	23 W/m·K
Elastizitätsmodul	240 GPa
Wärmeschockbeständigkeit	Extrem gut

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Überblick über die Industriekette der Halbleiterchip-Epitaxie:

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