Siliziumkarbid-Waferschiffchen für Horizontalöfen

VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Lieferant in China für Siliziumkarbid-Waferboote für Horizontalöfen. Mit jahrelanger Erfahrung in Forschung und Entwicklung sowie Produktion kann die Qualität gut kontrolliert werden und ein wettbewerbsfähiger Preis angeboten werden. Sie können sicher sein, dass Sie bei uns das Siliziumkarbid-Waferboot für den Horizontalofen kaufen.

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Produktbeschreibung

Hochwertiges Siliziumkarbid-Waferboot für Horizontalöfen wird vom chinesischen Hersteller VeTek Semiconductor angeboten. Kaufen Sie Siliziumkarbid-Waferboote für horizontale Öfen, die von hoher Qualität sind, direkt ab Werk zu einem niedrigen Preis. Siliziumkarbid-Waferboote für horizontale Öfen werden in Ofenrohren zum Laden und Übertragen von Wafern während Hochtemperaturbehandlungen verwendet. Aufgrund der hervorragenden Eigenschaften von Siliziumkarbidmaterialien wie hoher Temperaturbeständigkeit, chemischer Korrosionsbeständigkeit und thermischer Stabilität werden sie häufig in verschiedenen Wärmebehandlungsprozessen wie Diffusion, Oxidation, CVD und Glühen eingesetzt.

Siliziumkarbid-Waferboot für Horizontalöfen besteht aus Siliziumkarbid-Material und weist die folgenden Eigenschaften auf:

1. Hohe Härte und Verschleißfestigkeit: Siliziumkarbid hat eine Härte, die nur von Diamant übertroffen wird, und ist daher äußerst verschleißfest. Dadurch können Siliziumkarbid-Boote wiederholten mechanischen Stößen und Reibung standhalten und so ihre Lebensdauer verlängern.

2. Hohe Temperaturbeständigkeit: Siliziumkarbid hat einen Schmelzpunkt von 2730 °C, wodurch sich Siliziumkarbid-Boote für Hochtemperaturumgebungen und verschiedene Halbleiterherstellungsprozesse wie Hochtemperaturoxidation und -diffusion eignen.

3. Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient: Siliziumkarbid hat einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, der dazu beiträgt, die Dimensionsstabilität bei hohen Temperaturen aufrechtzuerhalten, eine Verformung des Bootes zu verhindern und die Genauigkeit der Waferverarbeitung zu beeinträchtigen.

4. Gute chemische Stabilität: Siliziumkarbid ist gegen die meisten Chemikalien beständig und reagiert nicht mit üblichen Säuren und Laugen, wodurch die Sicherheit und Sauberkeit der Wafer gewährleistet ist.

Wir können verschiedene Arten von Siliziumkarbid-Waferbooten herstellen, z. B. horizontale Waferboote, vertikale Waferboote und alle anderen kundenspezifischen Boote.

Wir verwenden hochreines rekristallisiertes Siliziumkarbid mit den folgenden Parametern:

Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid
Eigentum	Typischer Wert
Arbeitstemperatur (°C)	1600°C (mit Sauerstoff), 1700°C (reduzierende Umgebung)
SiC-Gehalt	> 99,96 %
Kostenlose Si-Inhalte	< 0,1 %
Schüttdichte	2,60–2,70 g/cm3
Scheinbare Porosität	< 16 %
Druckfestigkeit	> 600 MPa
Kaltbiegefestigkeit	80-90 MPa (20°C)
Warmbiegefestigkeit	90–100 MPa (1400 °C)
Wärmeausdehnung bei 1500 °C	4,70 · 10-6/°C
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 °C	23 W/m·K
Elastizitätsmodul	240 GPa
Wärmeschockbeständigkeit	Extrem gut

Anwendungen

Siliziumkarbid-Waferboote für Horizontalöfen finden breite Anwendung in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie:

Waferreinigung und Ätzen

Diffusion und Oxidation

Galvanisieren und Ätzen

Chemisch-mechanisches Polieren (CMP)

Wärmebehandlung

Wafertransfer und -lagerung

VeTek Halbleiterproduktionswerkstatt

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