Die Dünnschichtabscheidung ist bei der Chipherstellung von entscheidender Bedeutung, da durch die Abscheidung von Filmen mit einer Dicke von weniger als 1 Mikrometer mittels CVD, ALD oder PVD Mikrogeräte hergestellt werden. Diese Prozesse bauen Halbleiterkomponenten durch abwechselnde leitende und i......
WeiterlesenDer Halbleiterherstellungsprozess umfasst acht Schritte: Waferverarbeitung, Oxidation, Lithographie, Ätzen, Dünnschichtabscheidung, Verbindung, Prüfung und Verpackung. Silizium aus Sand wird zu Wafern verarbeitet, oxidiert, strukturiert und für hochpräzise Schaltkreise geätzt.
WeiterlesenIn diesem Artikel wird beschrieben, dass LED-Substrat die größte Anwendung von Saphir ist, sowie die wichtigsten Methoden zur Herstellung von Saphirkristallen: Züchtung von Saphirkristallen mit der Czochralski-Methode, Züchtung von Saphirkristallen mit der Kyropoulos-Methode, Züchtung von Saphirkris......
WeiterlesenDer Artikel erläutert den Temperaturgradienten in einem Einkristallofen. Es behandelt die statischen und dynamischen Wärmefelder während des Kristallwachstums, die Fest-Flüssigkeits-Grenzfläche und die Rolle des Temperaturgradienten bei der Erstarrung.
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