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SiC-Wafer-Boot

Das SiC-Wafer-Boot von VeTek Semiconductor ist ein sehr leistungsstarkes Produkt. Unser SiC-Wafer-Boot wird normalerweise in Halbleiter-Oxidations-Diffusionsöfen verwendet, um sicherzustellen, dass die Temperatur gleichmäßig auf dem Wafer verteilt wird und die Qualität der Siliziumwafer-Verarbeitung verbessert wird. Die hohe Temperaturstabilität und hohe Wärmeleitfähigkeit von SiC-Materialien gewährleisten eine effiziente und zuverlässige Halbleiterverarbeitung. Wir sind bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu sein.

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SiC-Prozessrohr

VeTek Semiconductor bietet leistungsstarke SiC-Prozessrohre für die Halbleiterfertigung. Unsere SiC-Prozessrohre zeichnen sich durch Oxidations- und Diffusionsprozesse aus. Mit höchster Qualität und Handwerkskunst bieten diese Rohre Hochtemperaturstabilität und Wärmeleitfähigkeit für eine effiziente Halbleiterverarbeitung. Wir bieten wettbewerbsfähige Preise und möchten Ihr langfristiger Partner in China sein.

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SiC-Cantilever-Paddel

Das SiC Cantilever Paddle von VeTek Semiconductor ist ein sehr leistungsstarkes Produkt. Unser SiC-Cantilever-Paddel wird normalerweise in Wärmebehandlungsöfen zur Handhabung und Unterstützung von Siliziumwafern, zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und anderen Verarbeitungsprozessen in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet. Die hohe Temperaturstabilität und die hohe Wärmeleitfähigkeit des SiC-Materials gewährleisten eine hohe Effizienz und Zuverlässigkeit im Halbleiterverarbeitungsprozess. Wir sind bestrebt, qualitativ hochwertige Produkte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten und freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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ALD-Planetensuszeptor

ALD-Prozess bedeutet Atomic Layer Epitaxy-Prozess. Vetek Semiconductor und ALD-Systemhersteller haben SiC-beschichtete ALD-Planetensuszeptoren entwickelt und produziert, die die hohen Anforderungen des ALD-Prozesses erfüllen, um den Luftstrom gleichmäßig über das Substrat zu verteilen. Gleichzeitig sorgt die hochreine CVD-SiC-Beschichtung von Vetek Semiconductor für Reinheit im Prozess. Willkommen, um die Zusammenarbeit mit uns zu besprechen.

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TaC-Beschichtungsführungsring

Der TaC-Beschichtungsführungsring von VeTek Semiconductor wird durch Aufbringen einer Tantalkarbidbeschichtung auf Graphitteile mithilfe einer hochentwickelten Technik namens chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) hergestellt. Dieses Verfahren ist bewährt und bietet außergewöhnliche Beschichtungseigenschaften. Durch die Verwendung des Führungsrings mit TaC-Beschichtung kann die Lebensdauer von Graphitkomponenten erheblich verlängert, die Bewegung von Graphitverunreinigungen unterdrückt und die Qualität der SiC- und AIN-Einkristalle zuverlässig aufrechterhalten werden. Willkommen bei uns.

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TaC-beschichteter Graphit-Suszeptor

Der TaC-beschichtete Graphit-Suszeptor von VeTek Semiconductor nutzt das chemische Gasphasenabscheidungsverfahren (CVD), um eine Tantalcarbid-Beschichtung auf der Oberfläche von Graphitteilen herzustellen. Dieses Verfahren ist das ausgereifteste und weist die besten Beschichtungseigenschaften auf. TaC-beschichteter Graphitsuszeptor kann die Lebensdauer von Graphitkomponenten verlängern, die Migration von Graphitverunreinigungen hemmen und die Qualität der Epitaxie sicherstellen. VeTek Semiconductor freut sich auf Ihre Anfrage.

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