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CVD-SiC-Block für das SiC-Kristallwachstum

VeTek Semiconductor konzentriert sich auf die Forschung, Entwicklung und Industrialisierung von CVD-SiC-Massenquellen, CVD-SiC-Beschichtungen und CVD-TaC-Beschichtungen. Am Beispiel des CVD-SiC-Blocks für das SiC-Kristallwachstum ist die Produktverarbeitungstechnologie fortschrittlich, die Wachstumsrate ist schnell, die hohe Temperaturbeständigkeit und die Korrosionsbeständigkeit sind stark. Gerne können Sie sich erkundigen.

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Neue Technologie zur SiC-Kristallzüchtung

Das durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) hergestellte hochreine Siliziumkarbid (SiC) von Vetek Semiconductor kann als Ausgangsmaterial für die Züchtung von Siliziumkarbidkristallen durch physikalischen Dampftransport (PVT) verwendet werden. Bei der SiC Crystal Growth New Technology wird das Ausgangsmaterial in einen Tiegel geladen und auf einen Impfkristall sublimiert. Verwenden Sie die ausrangierten CVD-SiC-Blöcke, um das Material als Quelle für die Züchtung von SiC-Kristallen zu recyceln. Willkommen bei einer Partnerschaft mit uns.

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CVD-SiC-Duschkopf

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von CVD-SiC-Duschköpfen in China. Wir sind seit vielen Jahren auf SiC-Material spezialisiert. CVD-SiC-Duschköpfe werden aufgrund ihrer hervorragenden thermochemischen Stabilität, hohen mechanischen Festigkeit und Beständigkeit als Material für den Fokussierring ausgewählt Plasmaerosion. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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SiC-Duschkopf

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von SiC-Duschköpfen in China. Wir sind seit vielen Jahren auf SiC-Material spezialisiert. SiC-Duschköpfe werden aufgrund seiner hervorragenden thermochemischen Stabilität, hohen mechanischen Festigkeit und Beständigkeit gegen Plasmaerosion als Fokusringmaterial ausgewählt .Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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SiC-Beschichtungsset Disc

VeTek Semiconductor, ein führender Hersteller von CVD-SiC-Beschichtungen, bietet SiC-Beschichtungssatzscheiben in Aixtron MOCVD-Reaktoren an. Diese SiC-Beschichtungssatzscheiben werden aus hochreinem Graphit hergestellt und verfügen über eine CVD-SiC-Beschichtung mit Verunreinigungen unter 5 ppm. Wir freuen uns über Anfragen zu diesem Produkt.

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SiC-Beschichtungssammelzentrum

VeTek Semiconductor, ein renommierter Hersteller von CVD-SiC-Beschichtungen, bietet Ihnen das hochmoderne SiC-Beschichtungskollektorzentrum im Aixtron G5 MOCVD-System. Diese SiC-Beschichtungs-Kollektorzentren wurden sorgfältig aus hochreinem Graphit entwickelt und verfügen über eine fortschrittliche CVD-SiC-Beschichtung, die hohe Temperaturstabilität, Korrosionsbeständigkeit und hohe Reinheit gewährleistet. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit Ihnen!

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