Der CVD-TaC-Beschichtungsträger von VeTek Semiconductor ist hauptsächlich für den epitaktischen Prozess der Halbleiterherstellung konzipiert. Der ultrahohe Schmelzpunkt, die hervorragende Korrosionsbeständigkeit und die hervorragende thermische Stabilität des CVD-TaC-Beschichtungsträgers machen dieses Produkt für den Halbleiter-Epitaxieprozess unverzichtbar. Wir hoffen aufrichtig, eine langfristige Geschäftsbeziehung mit Ihnen aufzubauen.
WeiterlesenAnfrage absendenDas CVD-SiC-Beschichtungsleitblech von Vetek Semiconductor wird hauptsächlich in der Si-Epitaxie verwendet. Es wird normalerweise mit Silikon-Verlängerungsrohren verwendet. Es kombiniert die einzigartige hohe Temperatur und Stabilität der CVD-SiC-Beschichtungsblende, was die gleichmäßige Verteilung des Luftstroms in der Halbleiterfertigung erheblich verbessert. Wir glauben, dass unsere Produkte Ihnen fortschrittliche Technologie und hochwertige Produktlösungen bieten können.
WeiterlesenAnfrage absendenDer CVD-SiC-Graphitzylinder von Vetek Semiconductor spielt eine zentrale Rolle in Halbleitergeräten und dient als Schutzschild in Reaktoren, um interne Komponenten bei hohen Temperatur- und Druckeinstellungen zu schützen. Es schützt effektiv vor Chemikalien und extremer Hitze und bewahrt so die Integrität der Ausrüstung. Mit außergewöhnlicher Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit gewährleistet es Langlebigkeit und Stabilität in anspruchsvollen Umgebungen. Die Verwendung dieser Abdeckungen verbessert die Leistung von Halbleitergeräten, verlängert die Lebensdauer und verringert den Wartungsaufwand und das Schadensrisiko. Fragen Sie uns gerne an.
WeiterlesenAnfrage absendenDie CVD-SiC-Beschichtungsdüsen von Vetek Semiconductor sind entscheidende Komponenten, die im LPE-SiC-Epitaxieprozess zur Abscheidung von Siliziumkarbidmaterialien während der Halbleiterherstellung verwendet werden. Diese Düsen bestehen typischerweise aus hochtemperaturbeständigem und chemisch stabilem Siliziumkarbidmaterial, um Stabilität in rauen Verarbeitungsumgebungen zu gewährleisten. Sie sind für eine gleichmäßige Abscheidung konzipiert und spielen eine Schlüsselrolle bei der Kontrolle der Qualität und Gleichmäßigkeit der in Halbleiteranwendungen gewachsenen Epitaxieschichten. Wir freuen uns auf eine langfristige Zusammenarbeit mit Ihnen.
WeiterlesenAnfrage absendenVetek Semiconductor bietet CVD-SiC-Beschichtungsschutz an, der für LPE-SiC-Epitaxie verwendet wird. Der Begriff „LPE“ bezieht sich normalerweise auf Niederdruckepitaxie (LPE) bei der chemischen Gasphasenabscheidung bei niedrigem Druck (LPCVD). In der Halbleiterfertigung ist LPE eine wichtige Prozesstechnologie zum Züchten einkristalliner Dünnfilme, die häufig zum Züchten von Silizium-Epitaxieschichten oder anderen Halbleiter-Epitaxieschichten verwendet wird. Bei weiteren Fragen können Sie sich gerne an uns wenden.
WeiterlesenAnfrage absendenVetek Semiconductor ist professionell in der Herstellung von CVD-SiC-Beschichtungen und TaC-Beschichtungen auf Graphit- und Siliziumkarbidmaterialien. Wir bieten OEM- und ODM-Produkte wie SiC-beschichtete Sockel, Wafer-Träger, Wafer-Chuck, Wafer-Trägertabletts, Planetenscheiben usw. an. Mit Reinraum- und Reinigungsgeräten der Güteklasse 1000 können wir Ihnen Produkte mit Verunreinigungen unter 5 ppm liefern. Wir freuen uns auf Ihre Nachricht bald von Dir.
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