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Dreiblättriger Graphittiegel

Dreiblättriger Graphittiegel

Der dreiblättrige Graphittiegel von VeTek Semiconductor ist ein spezieller Behälter, der für die thermische Behandlung von Halbleitermaterialien, insbesondere für die Herstellung von Einkristallen, entwickelt wurde. Es spielt eine entscheidende Rolle bei der Kontrolle des Wachstums von Einkristallstrukturen, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen erforderlich sind. VeTek Semiconductor's freut sich darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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Unterer Halbmond aus ultrareinem Graphit

Unterer Halbmond aus ultrareinem Graphit

VeTek Semiconductor ist ein führender Anbieter von maßgeschneiderten unteren Halbmonden aus ultrareinem Graphit in China und seit vielen Jahren auf fortschrittliche Materialien spezialisiert. Unser unterer Halbmond aus ultrareinem Graphit wurde speziell für SiC-Epitaxiegeräte entwickelt und gewährleistet eine hervorragende Leistung. Es besteht aus hochreinem importiertem Graphit und bietet Zuverlässigkeit und Haltbarkeit. Besuchen Sie unsere Fabrik in China, um unseren hochwertigen Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon aus erster Hand zu erkunden.

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Oberer Halbmondteil SiC-beschichtet

Oberer Halbmondteil SiC-beschichtet

VeTek Semiconductor ist ein führender Anbieter von kundenspezifischen SiC-beschichteten oberen Halbmondteilen in China und seit über 20 Jahren auf fortschrittliche Materialien spezialisiert. Das mit SiC beschichtete obere Halbmondteil von VeTek Semiconductor wurde speziell für SiC-Epitaxiegeräte entwickelt und dient als entscheidende Komponente in der Reaktionskammer. Es besteht aus hochreinem Graphit in Halbleiterqualität und gewährleistet eine hervorragende Leistung. Wir laden Sie ein, unsere Fabrik in China zu besuchen.

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Siliziumkarbid-Epitaxie-Wafer-Träger

Siliziumkarbid-Epitaxie-Wafer-Träger

VeTek Semiconductor ist ein führender Anbieter von kundenspezifischen Siliziumkarbid-Epitaxie-Waferträgern in China. Wir sind seit mehr als 20 Jahren auf fortschrittliche Materialien spezialisiert. Wir bieten einen Siliziumkarbid-Epitaxie-Waferträger für den Transport von SiC-Substrat und das Wachstum einer SiC-Epitaxieschicht im SiC-Epitaxiereaktor an. Dieser Siliziumkarbid-Epitaxie-Waferträger ist ein wichtiger SiC-beschichteter Teil des Halbmondteils, hohe Temperaturbeständigkeit, Oxidationsbeständigkeit und Verschleißfestigkeit. Wir heißen Sie herzlich willkommen, unsere Fabrik in China zu besuchen.

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Hochreiner poröser Graphit

Hochreiner poröser Graphit

Hochreiner poröser Graphit von VeTek Semiconductor ist ein fortschrittliches Halbleiterverarbeitungsmaterial. Es besteht aus hochreinem Kohlenstoffmaterial mit ausgezeichneter Wärmeleitfähigkeit, guter chemischer Stabilität und ausgezeichneter mechanischer Festigkeit. Dieser hochreine poröse Graphit spielt eine wichtige Rolle im Wachstumsprozess von einkristallinem SiC. VeTek Semiconductor ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten und freut sich darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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SiC-beschichteter MOCVD-Suszeptor

SiC-beschichteter MOCVD-Suszeptor

Der SiC-beschichtete MOCVD-Suszeptor von VeTek Semiconductor ist ein Gerät mit ausgezeichnetem Prozess, Haltbarkeit und Zuverlässigkeit. Sie halten hohen Temperaturen und chemischen Umgebungen stand, behalten eine stabile Leistung und eine lange Lebensdauer bei, wodurch die Häufigkeit von Austausch und Wartung verringert und die Produktionseffizienz verbessert wird. Unser MOCVD-Epitaxie-Suszeptor ist bekannt für seine hohe Dichte, hervorragende Ebenheit und hervorragende Wärmekontrolle und ist daher die bevorzugte Ausrüstung in rauen Fertigungsumgebungen. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit Ihnen.

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