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CVD-SiC-beschichteter Rock

VeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller, Innovator und Marktführer für CVD-SiC-Beschichtung und TAC-Beschichtung in China. Seit vielen Jahren konzentrieren wir uns auf verschiedene CVD-SiC-Beschichtungsprodukte wie CVD-SiC-beschichtete Röcke, CVD-SiC-Beschichtungsringe, CVD-SiC-Beschichtungsträger usw. VeTek Semiconductor unterstützt maßgeschneiderte Produktdienstleistungen und zufriedenstellende Produktpreise und freut sich auf Ihre weitere Zusammenarbeit Beratung.

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CVD-TaC-Beschichtungsträger

Der CVD-TaC-Beschichtungsträger von VeTek Semiconductor ist hauptsächlich für den epitaktischen Prozess der Halbleiterherstellung konzipiert. Der ultrahohe Schmelzpunkt, die hervorragende Korrosionsbeständigkeit und die hervorragende thermische Stabilität des CVD-TaC-Beschichtungsträgers machen dieses Produkt im Halbleiter-Epitaxieprozess unverzichtbar. Wir hoffen aufrichtig, eine langfristige Geschäftsbeziehung mit Ihnen aufzubauen.

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CVD-SiC-Beschichtungsleitblech

Das CVD-SiC-Beschichtungsleitblech von Vetek Semiconductor wird hauptsächlich in der Si-Epitaxie verwendet. Es wird normalerweise mit Silikon-Verlängerungsrohren verwendet. Es kombiniert die einzigartige hohe Temperatur und Stabilität der CVD-SiC-Beschichtungsblende, was die gleichmäßige Verteilung des Luftstroms in der Halbleiterfertigung erheblich verbessert. Wir glauben, dass unsere Produkte Ihnen fortschrittliche Technologie und hochwertige Produktlösungen bieten können.

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CVD-SiC-Graphitzylinder

Der CVD-SiC-Graphitzylinder von Vetek Semiconductor spielt eine zentrale Rolle in Halbleitergeräten und dient als Schutzschild in Reaktoren, um interne Komponenten bei hohen Temperatur- und Druckeinstellungen zu schützen. Es schützt effektiv vor Chemikalien und extremer Hitze und bewahrt so die Integrität der Ausrüstung. Mit außergewöhnlicher Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit gewährleistet es Langlebigkeit und Stabilität in anspruchsvollen Umgebungen. Die Verwendung dieser Abdeckungen verbessert die Leistung von Halbleitergeräten, verlängert die Lebensdauer und verringert den Wartungsaufwand und das Schadensrisiko. Fragen Sie uns gerne an.

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CVD-SiC-Beschichtungsdüse

Die CVD-SiC-Beschichtungsdüsen von Vetek Semiconductor sind entscheidende Komponenten, die im LPE-SiC-Epitaxieprozess zur Abscheidung von Siliziumkarbidmaterialien während der Halbleiterherstellung verwendet werden. Diese Düsen bestehen typischerweise aus hochtemperaturbeständigem und chemisch stabilem Siliziumkarbidmaterial, um Stabilität in rauen Verarbeitungsumgebungen zu gewährleisten. Sie sind für eine gleichmäßige Abscheidung konzipiert und spielen eine Schlüsselrolle bei der Kontrolle der Qualität und Gleichmäßigkeit von Epitaxieschichten in Halbleiteranwendungen. Wir freuen uns auf eine langfristige Zusammenarbeit mit Ihnen.

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CVD-SiC-Beschichtungsschutz

Vetek Semiconductor bietet CVD-SiC-Beschichtungsschutz an, der für LPE-SiC-Epitaxie verwendet wird. Der Begriff „LPE“ bezieht sich normalerweise auf Niederdruckepitaxie (LPE) bei der chemischen Gasphasenabscheidung bei niedrigem Druck (LPCVD). In der Halbleiterfertigung ist LPE eine wichtige Prozesstechnologie zum Züchten einkristalliner Dünnfilme, die häufig zum Züchten von Silizium-Epitaxieschichten oder anderen Halbleiter-Epitaxieschichten verwendet wird. Bei weiteren Fragen können Sie sich gerne an uns wenden.

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