VeTek Semiconductor ist Ihr innovativer Partner im Bereich der Halbleiterverarbeitung. Mit unserem umfangreichen Portfolio an Materialkombinationen aus Siliziumkarbidkeramik in Halbleiterqualität, Komponentenfertigungskapazitäten und anwendungstechnischen Dienstleistungen können wir Ihnen bei der Bewältigung bedeutender Herausforderungen helfen. Technische Siliziumkarbidkeramiken werden aufgrund ihrer außergewöhnlichen Materialleistung häufig in der Halbleiterindustrie eingesetzt. Die hochreine Siliziumkarbidkeramik von VeTek Semiconductor wird häufig im gesamten Zyklus der Halbleiterherstellung und -verarbeitung eingesetzt.
VeTek Semiconductor bietet technische Keramikkomponenten, die speziell für Batch-Diffusions- und LPCVD-Anforderungen entwickelt wurden, darunter:
• Leitbleche und Halter
• Einspritzdüsen
• Liner und Prozessrohre
• Cantilever-Paddel aus Siliziumkarbid
• Waffelschiffchen und Sockel
SiC-Cantilever-Paddel SiC-Prozessrohre Siliziumkarbid-Prozessrohr SiC-Vertikal-Wafer-Boot Horizontales Waferboot aus SiC SiC-Horizontalwafer-Boot SiC-LPCVD-Waferboot SiC-Horizontalplattenboot Rundes Waferboot aus SiC
Minimieren Sie Verunreinigungen und außerplanmäßige Wartungsarbeiten mit hochreinen Komponenten, die für die Anforderungen der Plasmaätzverarbeitung entwickelt wurden, darunter:
Fokusringe
Düsen
Schilde
Duschköpfe
Fenster / Deckel
Andere benutzerdefinierte Komponenten
VeTek Semiconductor bietet fortschrittliche Materialkomponenten, die auf Hochtemperatur-Wärmeverarbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie zugeschnitten sind. Diese Anwendungen umfassen RTP, Epi-Prozesse, Diffusion, Oxidation und Glühen. Unsere technische Keramik ist so konzipiert, dass sie thermischen Schocks standhält und eine zuverlässige und konstante Leistung liefert. Mit den Komponenten von VeTek Semiconductor können Halbleiterhersteller eine effiziente und qualitativ hochwertige thermische Verarbeitung erreichen und so zum Gesamterfolg der Halbleiterproduktion beitragen.
• Diffusoren
• Isolatoren
• Suszeptoren
• Andere kundenspezifische thermische Komponenten
Physikalische Eigenschaften von rekristallisiertem Siliziumkarbid | |
Eigentum | Typischer Wert |
Arbeitstemperatur (°C) | 1600°C (mit Sauerstoff), 1700°C (reduzierende Umgebung) |
SiC / SiC-Gehalt | > 99,96 % |
Si / Freier Si-Gehalt | < 0,1 % |
Schüttdichte | 2,60–2,70 g/cm3 |
Scheinbare Porosität | < 16 % |
Druckfestigkeit | > 600 MPa |
Kaltbiegefestigkeit | 80-90 MPa (20°C) |
Warmbiegefestigkeit | 90–100 MPa (1400 °C) |
Wärmeausdehnung bei 1500 °C | 4,70 · 10-6/°C |
Wärmeleitfähigkeit bei 1200 °C | 23 W/m·K |
Elastizitätsmodul | 240 GPa |
Wärmeschockbeständigkeit | Extrem gut |
Das hochreine Siliziumkarbid-Waferboot von VeTek Semiconductor besteht aus extrem reinem Siliziumkarbidmaterial mit ausgezeichneter thermischer Stabilität, mechanischer Festigkeit und chemischer Beständigkeit. Hochreines Siliziumkarbid-Waferboot wird in Heißzonenanwendungen in der Halbleiterfertigung, insbesondere in Hochtemperaturumgebungen, eingesetzt und spielt eine wichtige Rolle beim Schutz von Wafern, beim Materialtransport und bei der Aufrechterhaltung stabiler Prozesse. VeTek Semiconductor wird weiterhin hart daran arbeiten, Innovationen zu entwickeln und die Leistung hochreiner Siliziumkarbid-Waferboote zu verbessern, um den sich entwickelnden Anforderungen der Halbleiterfertigung gerecht zu werden. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenVeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller und Lieferant, der sich der Bereitstellung hochwertiger ultrareiner Siliziumkarbidpulver für das Kristallwachstum widmet. Mit einer Reinheit von bis zu 99,999 Gew.-% und einem extrem geringen Verunreinigungsgrad von Stickstoff, Bor, Aluminium und anderen Verunreinigungen ist es speziell darauf ausgelegt, die halbisolierenden Eigenschaften von hochreinem Siliziumkarbid zu verbessern. Gerne können Sie sich bei uns erkundigen und mit uns zusammenarbeiten!
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