VeTek Semiconductor ist auf die Herstellung hochreiner Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte spezialisiert. Diese Beschichtungen sind für die Anwendung auf gereinigtem Graphit, Keramik und hochschmelzenden Metallkomponenten konzipiert.
Unsere hochreinen Beschichtungen sind vor allem für den Einsatz in der Halbleiter- und Elektronikindustrie bestimmt. Sie dienen als Schutzschicht für Waferträger, Suszeptoren und Heizelemente und schützen sie vor korrosiven und reaktiven Umgebungen, die bei Prozessen wie MOCVD und EPI auftreten. Diese Prozesse sind integraler Bestandteil der Waferverarbeitung und Geräteherstellung. Darüber hinaus eignen sich unsere Beschichtungen gut für Anwendungen in Vakuumöfen und zur Probenerwärmung, wo Hochvakuum, reaktive und Sauerstoffumgebungen herrschen.
Bei VeTek Semiconductor bieten wir mit unseren fortschrittlichen Werkstattkapazitäten eine umfassende Lösung. Dadurch ist es uns möglich, die Basiskomponenten aus Graphit, Keramik oder Refraktärmetallen herzustellen und die SiC- oder TaC-Keramikbeschichtungen im eigenen Haus aufzubringen. Wir bieten auch Beschichtungsdienste für vom Kunden bereitgestellte Teile an und gewährleisten so die Flexibilität, unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden.
Unsere Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte werden häufig in der Si-Epitaxie, SiC-Epitaxie, MOCVD-System, RTP/RTA-Prozess, Ätzprozess, ICP/PSS-Ätzprozess und Prozess verschiedener LED-Typen, einschließlich blauer und grüner LED, UV-LED und tiefem UV, eingesetzt LED usw., die an Geräte von LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI usw. angepasst sind.
Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung | |
Eigentum | Typischer Wert |
Kristallstruktur | Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert |
Dichte | 3,21 g/cm³ |
Härte | 2500 Vickers-Härte (500 g Belastung) |
Körnung | 2~10μm |
Chemische Reinheit | 99,99995 % |
Wärmekapazität | 640 J·kg-1·K-1 |
Sublimationstemperatur | 2700℃ |
Biegefestigkeit | 415 MPa RT 4-Punkt |
Elastizitätsmodul | 430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃ |
Wärmeleitfähigkeit | 300W·m-1·K-1 |
Wärmeausdehnung (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
VeTek Semiconductor ist ein führender Anbieter von kundenspezifischen SiC-beschichteten oberen Halbmondteilen in China und seit über 20 Jahren auf fortschrittliche Materialien spezialisiert. Das mit SiC beschichtete obere Halbmondteil von VeTek Semiconductor wurde speziell für SiC-Epitaxiegeräte entwickelt und dient als entscheidende Komponente in der Reaktionskammer. Es besteht aus hochreinem Graphit in Halbleiterqualität und gewährleistet eine hervorragende Leistung. Wir laden Sie ein, unsere Fabrik in China zu besuchen.
WeiterlesenAnfrage absendenVeTek Semiconductor ist ein führender Anbieter von kundenspezifischen Siliziumkarbid-Epitaxie-Waferträgern in China. Wir sind seit mehr als 20 Jahren auf fortschrittliche Materialien spezialisiert. Wir bieten einen Siliziumkarbid-Epitaxie-Waferträger für den Transport von SiC-Substrat und das Wachstum einer SiC-Epitaxieschicht im SiC-Epitaxiereaktor an. Dieser Siliziumkarbid-Epitaxie-Waferträger ist ein wichtiger SiC-beschichteter Teil des Halbmondteils, hohe Temperaturbeständigkeit, Oxidationsbeständigkeit und Verschleißfestigkeit. Wir heißen Sie herzlich willkommen, unsere Fabrik in China zu besuchen.
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-beschichtete MOCVD-Suszeptor von VeTek Semiconductor ist ein Gerät mit ausgezeichnetem Prozess, Haltbarkeit und Zuverlässigkeit. Sie halten hohen Temperaturen und chemischen Umgebungen stand, behalten eine stabile Leistung und eine lange Lebensdauer bei, wodurch die Häufigkeit von Austausch und Wartung verringert und die Produktionseffizienz verbessert wird. Unser MOCVD-Epitaxie-Suszeptor ist bekannt für seine hohe Dichte, hervorragende Ebenheit und hervorragende Wärmekontrolle und ist daher die bevorzugte Ausrüstung in rauen Fertigungsumgebungen. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit Ihnen.
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-beschichtete ICP-Ätzträger von VeTek Semiconductor wurde für die anspruchsvollsten Epitaxiegeräteanwendungen entwickelt. Unser SiC-beschichteter ICP-Ätzträger besteht aus hochwertigem, hochreinem Graphitmaterial und verfügt über eine äußerst ebene Oberfläche und eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit, um den rauen Bedingungen während der Handhabung standzuhalten. Die hohe Wärmeleitfähigkeit des SiC-beschichteten Trägers gewährleistet eine gleichmäßige Wärmeverteilung für hervorragende Ätzergebnisse. VeTek Semiconductor freut sich auf den Aufbau einer langfristigen Partnerschaft mit Ihnen.
WeiterlesenAnfrage absendenDie PSS-Ätzträgerplatte für Halbleiter von VeTek Semiconductor ist ein hochwertiger, hochreiner Graphitträger, der für Wafer-Handhabungsprozesse entwickelt wurde. Unsere Träger verfügen über eine hervorragende Leistung und können auch in rauen Umgebungen, hohen Temperaturen und rauen chemischen Reinigungsbedingungen gute Dienste leisten. Unsere Produkte sind in vielen europäischen und amerikanischen Märkten weit verbreitet und wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenVeTek Semiconductor ist ein führender Hersteller und Innovator von Rapid Thermal Annealing Susceptor in China. Wir sind seit vielen Jahren auf SiC-Beschichtungsmaterialien spezialisiert. Wir bieten Rapid Thermal Annealing Susceptor mit hoher Qualität, hoher Temperaturbeständigkeit und superdünn an. Wir heißen Sie herzlich willkommen, unsere zu besuchen Fabrik in China.
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