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China Siliziumkarbidbeschichtung Hersteller, Lieferant, Fabrik

VeTek Semiconductor ist auf die Herstellung hochreiner Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte spezialisiert. Diese Beschichtungen sind für die Anwendung auf gereinigtem Graphit, Keramik und hochschmelzenden Metallkomponenten konzipiert.

Unsere hochreinen Beschichtungen sind vor allem für den Einsatz in der Halbleiter- und Elektronikindustrie bestimmt. Sie dienen als Schutzschicht für Waferträger, Suszeptoren und Heizelemente und schützen sie vor korrosiven und reaktiven Umgebungen, die bei Prozessen wie MOCVD und EPI auftreten. Diese Prozesse sind integraler Bestandteil der Waferverarbeitung und Geräteherstellung. Darüber hinaus eignen sich unsere Beschichtungen gut für Anwendungen in Vakuumöfen und zur Probenerwärmung, wo Hochvakuum, reaktive und Sauerstoffumgebungen herrschen.

Bei VeTek Semiconductor bieten wir mit unseren fortschrittlichen Werkstattkapazitäten eine umfassende Lösung. Dadurch ist es uns möglich, die Basiskomponenten aus Graphit, Keramik oder Refraktärmetallen herzustellen und die SiC- oder TaC-Keramikbeschichtungen im eigenen Haus aufzubringen. Wir bieten auch Beschichtungsdienste für vom Kunden bereitgestellte Teile an und gewährleisten so die Flexibilität, unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden.

Unsere Siliziumkarbid-Beschichtungsprodukte werden häufig in der Si-Epitaxie, SiC-Epitaxie, MOCVD-System, RTP/RTA-Prozess, Ätzprozess, ICP/PSS-Ätzprozess und Prozess verschiedener LED-Typen, einschließlich blauer und grüner LED, UV-LED und tiefem UV, eingesetzt LED usw., die an Geräte von LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI usw. angepasst sind.


Reaktorteile, die wir herstellen können:

Aixtron G5,EPI susceptor,MOCVD susceptor


Die Siliziumkarbidbeschichtung bietet mehrere einzigartige Vorteile:

Silicon Carbide Coating several unique advantages


VeTek Semiconductor Siliziumkarbid-Beschichtungsparameter:

Grundlegende physikalische Eigenschaften der CVD-SiC-Beschichtung
Eigentum Typischer Wert
Kristallstruktur Polykristalline FCC-β-Phase, hauptsächlich (111)-orientiert
Dichte 3,21 g/cm³
Härte 2500 Vickers-Härte (500 g Belastung)
Körnung 2~10μm
Chemische Reinheit 99,99995 %
Wärmekapazität 640 J·kg-1·K-1
Sublimationstemperatur 2700℃
Biegefestigkeit 415 MPa RT 4-Punkt
Elastizitätsmodul 430 Gpa 4pt Biegung, 1300℃
Wärmeleitfähigkeit 300W·m-1·K-1
Wärmeausdehnung (CTE) 4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films


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LPE-Halbmond-SiC-EPI-Reaktor

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VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller, Innovator und Marktführer für LPE-Halbmond-SiC-EPI-Reaktoren in China. Der LPE Halfmoon SiC EPI Reactor ist ein Gerät, das speziell für die Herstellung hochwertiger Epitaxieschichten aus Siliziumkarbid (SiC) entwickelt wurde, die hauptsächlich in der Halbleiterindustrie verwendet werden. VeTek Semiconductor ist bestrebt, führende Technologie- und Produktlösungen für die Halbleiterindustrie bereitzustellen und freut sich über Ihre weiteren Anfragen.

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Aixtron MOCVD-Rezeptor

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Als professioneller Hersteller und Lieferant von Aixtron MOCVD Susceptoren in China wird der Aixtron MOCVD Susceptor von Vetek Semiconductor häufig im Dünnschichtabscheidungsprozess der Halbleiterproduktion eingesetzt, insbesondere im MOCVD-Prozess. Vetek Semiconductor konzentriert sich auf die Herstellung und Lieferung leistungsstarker Aixtron MOCVD Susceptor-Produkte. Begrüßen Sie Ihre Anfrage.

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Graphitheizgerät mit Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung

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Als professioneller Hersteller und Lieferant von Graphitheizgeräten mit Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung in China ist der Graphitheizer mit Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung ein Hochleistungsheizgerät aus Graphitsubstrat, das auf seiner Oberfläche mit einer Silizium-Kohlenstoff-Keramik-Beschichtung (SiC) beschichtet ist. Mit seinem Verbundmaterialdesign bietet dieses Produkt hervorragende Heizlösungen in der Halbleiterfertigung. Begrüßen Sie Ihre Anfrage.

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Heizgerät mit Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung

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VeTek Semiconductor ist ein professioneller Hersteller von Heizgeräten mit Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung in China. Die Siliziumkarbid-Keramikbeschichtungsheizung ist hauptsächlich für die hohen Temperaturen und die raue Umgebung der Halbleiterfertigung konzipiert. Sein ultrahoher Schmelzpunkt, die hervorragende Korrosionsbeständigkeit und die hervorragende Wärmeleitfähigkeit machen dieses Produkt im Halbleiterproduktionsprozess unverzichtbar. Wir hoffen aufrichtig, eine langfristige Geschäftsbeziehung mit Ihnen aufzubauen.

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Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung

Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung

Als professioneller Hersteller und Lieferant von Siliziumkarbid-Keramikbeschichtungen in China wird die Siliziumkarbid-Keramikbeschichtung von Vetek Semiconductor häufig auf Schlüsselkomponenten von Halbleiterfertigungsanlagen eingesetzt, insbesondere wenn CVD- und PECVD-Prozesse beteiligt sind. Begrüßen Sie Ihre Anfrage.

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EPI-Empfänger

EPI-Empfänger

Der EPI-Suszeptor von VeTek Semiconductor ist für anspruchsvolle epitaktische Geräteanwendungen konzipiert. Seine mit hochreinem Siliziumkarbid (SiC) beschichtete Graphitstruktur bietet eine hervorragende Wärmebeständigkeit, eine gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit für eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epitaxieschicht sowie eine lang anhaltende chemische Beständigkeit. Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit mit Ihnen.

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Als professioneller Siliziumkarbidbeschichtung Hersteller und Lieferant in China verfügen wir über eine eigene Fabrik. Egal, ob Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen benötigen, um den spezifischen Anforderungen Ihrer Region gerecht zu werden, oder fortschrittliche und langlebige Produkte aus China kaufen möchten, Sie können uns eine Nachricht hinterlassen.
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